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CLEAN TRACK LITHIUS Pro Z

EUVなど最新リソグラフィ技術対応300mmウェーハプロセス用レジスト塗布現像装置

CLEAN TRACK LITHIUS Pro Zは、EUVを含む10nmノード以細の最新リソグラフィプロセスに対応した300mmウェーハプロセス用のレジスト塗布現像装置です。
 すでに多くのお客さまから支持していただいているCLEAN TRACK LITHIUS Pro Vの基本コンセプトを発展させ、さらなる高スループット化とともに、今後のさらなる微細化対応として基本性能を向上させています。新たに低発塵搬送方式を採用することでウェーハ搬送精度向上を図り、ウェーハベベル非接触による裏面およびエッジ部のディフェクト抑制の機能を付加します。さらに、OEE(Overall Equipment Efficiency)改善およびランニングコストの低減コンセプトも継続し、お客様の製品の生産性向上に貢献します。また、EUVプロセスなどの先端プロセスにも拡張可能で、半導体製造において、効率的な生産環境の構築を強力にサポートいたします。

基本情報

ウェーハサイズ (mm) 300
スループット(wph) Inline: 300
対応プロセス EUV, Immersion ArF, Dry ArF, KrF, i-line, SOC
対応基板 Si, ガラス
備考
・高い生産性とプロセス性能
・低パーティクルウェーハ搬送システム
・OEE改善
・薬液使用量削減によるプロセスコスト低減

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取扱企業

東京エレクトロン株式会社

業種:産業用機械  所在地:東京都 港区赤坂 5-3-1 赤坂Bizタワー25階

半導体とFPD産業に高い付加価値と利益を生み出す真のグローバルカンパニー

東京エレクトロンは半世紀を超えて変化の大きい半導体産業、フラットパネルディスプレイ業界の中で、技術革新を繰り返しながら、時代とともに成長を続けてきた。
 現在でも半導体は様々な技術課題に直面しており、それを打開するために新しい技術が生まれている。当社は、こうした新しい技術に対応した製品の開発と提供により、顧客のの戦略的パートナーとして貢献していく。

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