カテゴリー
- 真空バルブ（ゲートバルブ、ベンドロールバルブ）
- オーリング
- シール／フランジ
- 真空開閉シャッタ
- ステージ（リニアモータ）
- リニアモータ駆動システム
- 静電チャック
- 熱電対／パイロメータ
- サセプタ
- センサ（温度、湿度、圧力、流量など）
- 各種保護材料（消耗材料）
- マスフローコントローラ
- ガスバルブ
- 薬液バルブ
- キャピラリー
- 薬液用ポンプ
- テフロン（半導体グレード）
- SASU（半導体グレード）
- 大気ロボット
- 真空ロボット
- リニアモータ搬送システム
- 制御ボード
- 制御用PLC（国内供給）
- 制御用パソコン（国内）
- モータ／サーボモータ
- RF電源／その他電源
- クライオポンプ
- ターボ分子ポンプ
- ドライポンプ
- チラー
- 防塵衣
- エンドポイントモニタ
- ケーブル／光ファイバ
- 真空バルブ
- オーリング
- 真空シール／フランジ
- 真空開閉シャッタ
- ステージ（リニアモータ）
- リニアモータ駆動システム
- 静電チャック
- 熱電対／パイロメータ
- センサ（温度、湿度、圧力、流量など）
- 各種保護材料（消耗材料）
- ヒータ（蒸着装置向け）
- サセプタ（半導体にも追加）
- マスフローコントローラ
- ガスバルブ
- 薬液バルブ
- キャピラリ／ディスペンサ
- ノズル（スプレーノズル、スリットノズルなどを含む）
- インクジェットヘッド（ノズル）
- 薬液用ポンプ
- スペーサ供給ユニット
- コロナガン
- テフロン（半導体グレード）
- SUS（半導体グレード）
- 大気ロボット
- 真空ロボット
- リニアモータ搬送システム
- 制御ボード
- 制御用PLC（国内供給）
- 制御用パソコン（国内）
- モータ／サーボモータ
- RF電源／その他電源
- クライオポンプ
- ターボ分子ポンプ
- ドライポンプ
- チラー
- レーザ光源
- 赤外線検出器
- シリコン
- 化合物半導体
- ターゲット材
- CVD・ALD用成膜材料(High-k材料/low-k材料/その他）
- クリーニングガス
- イオンドーピングガス
- マスク基板
- マスクブランクス
- フォトマスク
- g・i線レジスト／現像液
- KrFレジスト／現像液
- ArFレジスト／現像液
- AｒF液浸レジスト／現像液
- EUVレジスト／現像液
- 厚膜・その他レジスト
- エッチング液
- エッチングガス
- スラリー
- パッド
- パッドコンディショナ
- 洗浄液
- 超純水・機能水
- サブストレート（パッケージ基板）／インターポーザ
- TAB・COFテープ 接着剤 接着テープ
- 接着剤 接着テープ
- アンダーフィル
- ボンディングワイヤ
- リードフレーム
- はんだボール
- 封止樹脂
- セラミックパッケージ
- フリップチップ用エポキシ樹脂封止材
- バックグラインディングプロセス用テープ/ウエハレベルCSP用裏面保護フィルム
- ダイシング／ダイボンディング用フィルム
- その他フィルム
- マスク基板
- マスクブランクス
- フォトマスク
- ガラス基板（液晶）
- ガラス基板（OLED用）
- Crガス、薬液、Si
- Cr、ITO
- カラーフィルタ用色材（カラーレジスト/顔料）、インクジェット用インク
- フォトレジスト、現像液
- 配向膜材料（SiO2）：CVDガス材料、ポリイミド（樹脂）
- 液晶材料
- スペーサ材料（シリコン球）
- シール（封止）材（接着剤）／メインシール材／仮接着剤
- 液晶注入口封止材（紫外線硬化樹脂材料）
- 偏光フィルム
- 基板（仮配置基板）
- ポリイミド樹脂
- 正孔注入層材（有機膜）
- 正孔輸送層材（有機膜）
- 電子注入層材料（有機膜、金属化合物薄膜
- 電子注入層材料（有機膜、金属化合物薄膜
- 高分子有機EL材料
- 有機EL材料（蒸着用）
- 蒸着材料
CLEAN TRACK LITHIUS Pro Z
EUVなど最新リソグラフィ技術対応300mmウェーハプロセス用レジスト塗布現像装置
CLEAN TRACK LITHIUS Pro Zは、EUVを含む10nmノード以細の最新リソグラフィプロセスに対応した300mmウェーハプロセス用のレジスト塗布現像装置です。
すでに多くのお客さまから支持していただいているCLEAN TRACK LITHIUS Pro Vの基本コンセプトを発展させ、さらなる高スループット化とともに、今後のさらなる微細化対応として基本性能を向上させています。新たに低発塵搬送方式を採用することでウェーハ搬送精度向上を図り、ウェーハベベル非接触による裏面およびエッジ部のディフェクト抑制の機能を付加します。さらに、OEE（Overall Equipment Efficiency）改善およびランニングコストの低減コンセプトも継続し、お客様の製品の生産性向上に貢献します。また、EUVプロセスなどの先端プロセスにも拡張可能で、半導体製造において、効率的な生産環境の構築を強力にサポートいたします。
基本情報
ウェーハサイズ (mm) 300
スループット(wph) Inline: 300
対応プロセス EUV, Immersion ArF, Dry ArF, KrF, i-line, SOC
対応基板 Si, ガラス
備考
・高い生産性とプロセス性能
・低パーティクルウェーハ搬送システム
・OEE改善
・薬液使用量削減によるプロセスコスト低減
取扱企業
東京エレクトロン株式会社
業種：産業用機械 所在地：東京都 港区赤坂 5-3-1 赤坂Bizタワー25階
半導体とFPD産業に高い付加価値と利益を生み出す真のグローバルカンパニー
東京エレクトロンは半世紀を超えて変化の大きい半導体産業、フラットパネルディスプレイ業界の中で、技術革新を繰り返しながら、時代とともに成長を続けてきた。
現在でも半導体は様々な技術課題に直面しており、それを打開するために新しい技術が生まれている。当社は、こうした新しい技術に対応した製品の開発と提供により、顧客のの戦略的パートナーとして貢献していく。
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CLEAN TRACK LITHIUS Pro Z
