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Tactras Vigusは、高い信頼性と高生産性を提供する300mmウェーハプロセス対応プラズマエッチング装置です。
半導体デバイスの微細化、高密度化を実現するため、デバイス構造が3次元化へと移行し、エッチング加工への要求は年々高まっています。高まる技術要求に対応すべく、Tactras Vigus はエッチングの用途に応じ、高アスペクト比エッチング、マスク＆絶縁膜エッチング、BEOL 絶縁膜エッチング向けに、それぞれカスタマイズされた仕様を提供します。また、ベース設計を共有しているため、改造により用途を切り替えることが可能なフレキシビリティを持つことが特徴のひとつです。さらに、デバイス構造がより複雑に多工程化しているなかにおいても歩留まり向上は必要不可欠となっており、Vigus?はエッチングによるプロファイル形成時のウェーハ面内均一性確保、ウェーハ間バラツキ抑制、薄膜化するストップレイヤーに対する高選択比などを実現すべく、アプリケーションが求めるエッチング要求と高エッチングレートの両立を実現しながら高い生産性を確保するための最適な設計技術を各々盛り込んでいます。Tactrasプラットフォームには最大6つのVigusチャンバーの搭載が可能で、装置間・チャンバー間の機差を極小化するロバスト設計、パーティクル低減技術、ユニット検査組立の採用、クリーンルームの省人化など、生産技術ノウハウを集結した装置運用の提供によりお客さまの生産性向上に貢献しています。

基本情報

チャンバ Vigus
ウェーハサイズ (mm) 300
装置形態新品
チャンバ数 1～6
対応プロセス Low-k, Ox,HARC, Line etch, ALE, SAQP, DD
基板 Si
セーフティ S2, CE

価格帯	1億円以上

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取扱企業

東京エレクトロン株式会社

業種：産業用機械所在地：東京都港区赤坂 5-3-1 赤坂Bizタワー25階

半導体とFPD産業に高い付加価値と利益を生み出す真のグローバルカンパニー

東京エレクトロンは半世紀を超えて変化の大きい半導体産業、フラットパネルディスプレイ業界の中で、技術革新を繰り返しながら、時代とともに成長を続けてきた。
　現在でも半導体は様々な技術課題に直面しており、それを打開するために新しい技術が生まれている。当社は、こうした新しい技術に対応した製品の開発と提供により、顧客のの戦略的パートナーとして貢献していく。

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