カテゴリー
- 真空バルブ（ゲートバルブ、ベンドロールバルブ）
- オーリング
- シール／フランジ
- 真空開閉シャッタ
- ステージ（リニアモータ）
- リニアモータ駆動システム
- 静電チャック
- 熱電対／パイロメータ
- サセプタ
- センサ（温度、湿度、圧力、流量など）
- 各種保護材料（消耗材料）
- マスフローコントローラ
- ガスバルブ
- 薬液バルブ
- キャピラリー
- 薬液用ポンプ
- テフロン（半導体グレード）
- SASU（半導体グレード）
- 大気ロボット
- 真空ロボット
- リニアモータ搬送システム
- 制御ボード
- 制御用PLC（国内供給）
- 制御用パソコン（国内）
- モータ／サーボモータ
- RF電源／その他電源
- クライオポンプ
- ターボ分子ポンプ
- ドライポンプ
- チラー
- 防塵衣
- エンドポイントモニタ
- ケーブル／光ファイバ
- 真空バルブ
- オーリング
- 真空シール／フランジ
- 真空開閉シャッタ
- ステージ（リニアモータ）
- リニアモータ駆動システム
- 静電チャック
- 熱電対／パイロメータ
- センサ（温度、湿度、圧力、流量など）
- 各種保護材料（消耗材料）
- ヒータ（蒸着装置向け）
- サセプタ（半導体にも追加）
- マスフローコントローラ
- ガスバルブ
- 薬液バルブ
- キャピラリ／ディスペンサ
- ノズル（スプレーノズル、スリットノズルなどを含む）
- インクジェットヘッド（ノズル）
- 薬液用ポンプ
- スペーサ供給ユニット
- コロナガン
- テフロン（半導体グレード）
- SUS（半導体グレード）
- 大気ロボット
- 真空ロボット
- リニアモータ搬送システム
- 制御ボード
- 制御用PLC（国内供給）
- 制御用パソコン（国内）
- モータ／サーボモータ
- RF電源／その他電源
- クライオポンプ
- ターボ分子ポンプ
- ドライポンプ
- チラー
- レーザ光源
- 赤外線検出器
- シリコン
- 化合物半導体
- ターゲット材
- CVD・ALD用成膜材料(High-k材料/low-k材料/その他）
- クリーニングガス
- イオンドーピングガス
- マスク基板
- マスクブランクス
- フォトマスク
- g・i線レジスト／現像液
- KrFレジスト／現像液
- ArFレジスト／現像液
- AｒF液浸レジスト／現像液
- EUVレジスト／現像液
- 厚膜・その他レジスト
- エッチング液
- エッチングガス
- スラリー
- パッド
- パッドコンディショナ
- 洗浄液
- 超純水・機能水
- サブストレート（パッケージ基板）／インターポーザ
- TAB・COFテープ 接着剤 接着テープ
- 接着剤 接着テープ
- アンダーフィル
- ボンディングワイヤ
- リードフレーム
- はんだボール
- 封止樹脂
- セラミックパッケージ
- フリップチップ用エポキシ樹脂封止材
- バックグラインディングプロセス用テープ/ウエハレベルCSP用裏面保護フィルム
- ダイシング／ダイボンディング用フィルム
- その他フィルム
- マスク基板
- マスクブランクス
- フォトマスク
- ガラス基板（液晶）
- ガラス基板（OLED用）
- Crガス、薬液、Si
- Cr、ITO
- カラーフィルタ用色材（カラーレジスト/顔料）、インクジェット用インク
- フォトレジスト、現像液
- 配向膜材料（SiO2）：CVDガス材料、ポリイミド（樹脂）
- 液晶材料
- スペーサ材料（シリコン球）
- シール（封止）材（接着剤）／メインシール材／仮接着剤
- 液晶注入口封止材（紫外線硬化樹脂材料）
- 偏光フィルム
- 基板（仮配置基板）
- ポリイミド樹脂
- 正孔注入層材（有機膜）
- 正孔輸送層材（有機膜）
- 電子注入層材料（有機膜、金属化合物薄膜
- 電子注入層材料（有機膜、金属化合物薄膜
- 高分子有機EL材料
- 有機EL材料（蒸着用）
- 蒸着材料
TELINDY PLUS
短TAT熱処理技術対応熱処理装置
TELINDY PLUSは、TELFORMULAが新たなセグメントとして創出した短TAT熱処理技術、量産性に優れたTELINDの特長を受け継ぎつつ、ウェーハ移載機構の改善・改良、新フレーム構造などのハードウェアにおける新技術を組み合わせ、さらに発展・進化させた熱処理装置です。既存CVD・酸化/アニールプロセスにおけるさらなるプロセス性能・生産性の向上のみならず、ALD領域へアプリケーションを拡充しました。また、TELINDY PLUSで改良されたユニットレイアウトの最適配置はメンテナンス性を向上させ、作業時間短縮に貢献します。さらに装置の維持管理に必要なドライガスクリーニング技術の最適化や、さらなる低酸素濃度でのローディングエリア雰囲気制御技術などにより、プロセス再現性の向上を可能にしました。微小パーティクルを制御することで、製品の高品質化と歩留りの向上にも貢献します。同時に125枚仕様オプション、FTPSヒーター搭載、短TAT、2ボート運用にて高生産性を実現しています。
対応アプリケーションは、ALD SiO2, SiN、 High-k、CVD Si (Poly Si, a-Si)、SiO2、SiN、Oxidation, Radical Oxidation, Annealです。
基本情報
ウェーハサイズ (mm) 300
製品形態 新品, 認定中古装置
最大ロード数 125
カセットストッカ 18
プロセス 熱ALD, LPCVD,酸化／アニール
リアクタ 熱処理
プロセス温度 RT-1100℃
追加機能（Additional features）, オプション N2/LL、Gas cleaning
取扱企業
東京エレクトロン株式会社
業種：産業用機械 所在地：東京都 港区赤坂 5-3-1 赤坂Bizタワー25階
半導体とFPD産業に高い付加価値と利益を生み出す真のグローバルカンパニー
東京エレクトロンは半世紀を超えて変化の大きい半導体産業、フラットパネルディスプレイ業界の中で、技術革新を繰り返しながら、時代とともに成長を続けてきた。
現在でも半導体は様々な技術課題に直面しており、それを打開するために新しい技術が生まれている。当社は、こうした新しい技術に対応した製品の開発と提供により、顧客のの戦略的パートナーとして貢献していく。
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