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Atomic Classics

サイドフロー・サーマルALD

CN1社のALD装置はウェーハの表面でのプリカーサ ガスのシーケンスリアクションに基づく強力な薄膜デポジションを行う革命的装置です。ALD Classicsは4~12インチウェーハに対応、当社ALD装置のベースとなるものです。

基本情報

基板サイズ: 4~12インチ(ウェーハ) /370×470mmガラス基板
プロセス:サーマルALDプロセスThermal ALD Process
ラミナーガスフロー(サイドガスフロー)
ガス供給システム:バブラー、液体供給システムなど
Low Particle Generation
省スペースのチャンバ設計(プロセス時間とガス消費量の低減)
成膜とミクスト・プロセスに対応Available Laminated & Mixed Process
わかりやすいユーザインターフェースとメンテナンス
最高基板温度 : 450 ℃
プリカーサキャニスタ搭載台数:4台(標準)

お問い合わせ

取扱企業

CN1 Co.,ltd.

業種:産業用機械 98-17, Dongtansandan 7-gil, Hwaseong-si, Gyenggi-do, (18487) Korea 

ALD装置で研究開発から量産まで対応

CN1社のALD装置はウェーハの表面でのプリカーサ ガスのシーケンスリアクションに基づく強力な薄膜デポジションを行う革命的装置です。

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