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Atomic Premium

シャワーヘッドタイプ・サーマル&プラズマ・エンハンスドALD

CN1社のALD装置はウェーハの表面でのプリカーサ ガスのシーケンスリアクションに基づく強力な薄膜デポジションを行う革命的装置です。ALD Premiumは4~12インチウェーハに対応、ALDとCVDプロセスを行うことが可能です。高い膜質と均一性を実現します。

基本情報

基板サイズ:4~12インチ(ウエーハ)
サーマルALDプロセス/プラズマCVDプロセス
調節可能なシャワーヘッドとウェーハ間のギャップ
完全分離のガス供給システム
ガス供給システム:バブラー、液体供給システム
基板温度 : 最高500 ℃ (@ Wafer)
プリカーサキャニスタ搭載台数:4台標準
アプリケーションAl2O3
 誘電膜(Al2O3、HfO2、ZrO2、TiO2、ZuO、ZnS、GST、ラミネートフィルム、その他
 窒化膜(AlN、TiN、TiAlN、TaN、その他
 金属膜(Ru,Co、Ti、Niその他)

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取扱企業

CN1 Co.,ltd.

業種:産業用機械 98-17, Dongtansandan 7-gil, Hwaseong-si, Gyenggi-do, (18487) Korea 

ALD装置で研究開発から量産まで対応

CN1社のALD装置はウェーハの表面でのプリカーサ ガスのシーケンスリアクションに基づく強力な薄膜デポジションを行う革命的装置です。

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