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FPA-1200NZ2C

キヤノン株式会社
最終更新日: 2023年12月07日

ナノインプリント半導体製造装置

光学系という介在物がないため、マスク上の微細な回路パターンを忠実にウェーハ上に再現できる。そのため、複雑な2次元、3次元の回路パターンを1回のインプリントで形成することも可能で、CoO(Cost of Ownership)の削減に貢献します。キヤノンのNIL技術は、既存の最先端ロジック半導体製造レベルの5nノードにあたる最小線幅14nmのパターン形成が可能となっており、さらに、マスクを改良することにより、2nノードにあたる最小線幅10nmレベルへの対応も期待されている。

基本情報

1.NIL技術による最先端半導体デバイス製造を実現
装置内の微粒子の発生や混入を抑制する新開発の環境制御技術を採用。これにより、多層化する半導体製造に必要な高精度の位置合わせや微粒子などによる欠陥の低減を実現し、微細かつ複雑な回路形成を可能にしている。
2.シンプルな構造による環境対応
投影露光装置のように光源の波長による微細化を必要としないため、既存の最先端ロジック向け露光技術(5ナノノード/線幅15nm)における消費電力は、スキャナなど投影露光装置と比べ大幅に削減でき、CO2の低減にも貢献する。
3.半導体デバイス以外の製造にも対応可能
 3次元のパターンを1回で形成できることから、ロジックやメモリなどの半導体デバイス以外として、数10nmの微細構造であるXR向けのメタレンズなどの製造など、幅広い用途に活用が可能。

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取扱企業

キヤノン株式会社

業種:繊維  所在地:東京都 大田区下丸子 3-30-2

製造装置で半導体、FPD、有機EL産業をリード

IoT時代の到来により多様化が進む半導体チップ。キヤノンは自動車や通信機器向けなど、市場の拡大によってますます高まる半導体チップの需要に、高い生産性で貢献している。また、有機ELディスプレイの量産では、キヤノントッキの真空蒸着技術が世界をリードしている。

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