【【セミナー】先端半導体プロセスにおける精密洗浄のサイエンスと技術動向】

半導体デバイスの微細化・高集積化に伴い、半導体洗浄は、パターン倒れを抑制しながら、微小なパーティクルや金属・有機汚染の除去、腐食抑制などを実施するという、厳しい状況にあります。

本セミナーでは、半導体洗浄の基礎から、CMP後洗浄剤の機能設計、物理洗浄のメカニズム、洗浄性能の評価技術まで幅広く解説するとともに、先端配線やハイブリッドボンディングなど、先端半導体プロセスにおける洗浄の課題と対策についても紹介し、皆様の課題解決の糸口になることを目指します。

通常価格 :30,800 円

納期 その他
納期備考 お申込み期限:開催前日まで可 ご参加のための詳細なご案内は、開催日の2日前に配信いたします。
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商品紹介

プログラム:
13:05~14:00 半導体洗浄のサイエンスと課題解決の考え方 
講師:森永 均氏(フジミインコーポレーテッド)
14:00~14:55 先端デバイスを支える半導体洗浄技術の基礎 
講師:虎井真司氏 (SCREENセミコンダクターソリューションズ)
14:55~15:20 コーヒーブレイク
紹介:Nano Gas水(水素ナノバブル含有水溶液 液体中に長期間バブルを安定して残す技術、10年経過しても消えない泡)       
15:20~16:05 先端半導体洗浄における物理洗浄のメカニズムと高性能化― 液滴衝突・流動・静電気現象の理解と制御 ―
講師:清家 善之先生(愛知工業大学工学部 電気電子材料研究室)
16:05~16:50 CMP後洗浄技術の基礎と先端デバイスへの対応 
講師:竹下寛氏 (三菱ケミカル株式会社)
16:50~17:00 名刺交換会

商品詳細

開催日時:2026年11月27日(金)13:00〜17:00
開催場所:プラザエフ(各線四ツ谷駅より徒歩1分)/ zoom
定員:会場 30名 オンライン 200名
受講料:個人参加(会場/オンライン):30,800円(税込み)
    5名までのグループ参加(オンラインのみ):63,800円(税込み)

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