プラズマCVD装置市場動向～中・韓企業が急成長～（2022年7月8日）
プラズマCVD装置は、低温で絶縁膜形成が可能であることから、STI（Shallow Trench Isolation）、プリメタル絶縁膜といった素子形成プロセス（FEOL）、層間絶縁膜、パッシベーション形成といった配線工程（BEOL）まで幅広く採用されている。2020年以降では、上記のようなウェーハプロセスだけでなく、TSV（Through Silion Via）やRDL形成などのパッケージ分野での需要も拡大している。
さらにMEMS、パワーデバイス向けに200mmウェーハ対応装置の需要が拡大している。このため、大手装置メーカでもこれらの用途に最適化した製品を投入している。
プラズマCVD装置の市場動向
プラズマCVD装置市場は、半導体設備投資の拡大に伴い2020年以降急速に拡大している。特に2021年は前年比40％増と大幅に拡大した。2022年も同17％増と高成長を維持する見通しである。
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