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出展社ニュース

【10/2開催セミナー】ＡＬＤ（原子層堆積法）の基礎とプロセス最適化および最新技術動向

◇日時：2026年10月2日（金） 10:30～16:30　 ◇受講料(税込)：55,000円　※2名同時申込みで1名分無料等、各種割引特典有　 ◇受講可能な形式：【会場受講】　 ◇概略：いつも大好評：霜垣先生が、ALDの最新動向を熱く解説、CVD／ALDプロセスの速度論からALDプロセス最適化へ。ALDプロセス周辺技術も徹底解説するセミナーです。ぜひこの機会にご参加いただき、セミナー会場で「ここだけの話」をたくさん聞いてください。 ≫[詳細・申込み](https://www.science-t.com/seminar/A261002.html?utm_source=SEMI-NET&utm_medium=referral&utm_campaign=A261002)

2026/09/08 サイエンス＆テクノロジー(株) 株式会社

イベント・セミナー

【9/30開催セミナー】半導体ウェット洗浄の基礎・実践と最新洗浄技術

◇日時：2026年9月30日（水） 13:00～16:30　 ◇受講料(税込)：49,500円　※2名同時申込みで1名分無料等、各種割引特典有　 ◇受講可能な形式：【ライブ配信】or【アーカイブ配信】　 ◇概略：パーティクル除去・再付着・パターンダメージ・帯電／ESD・乾燥不良の原因と対策などを解説するセミナーです。ぜひこの機会にご参加ください。 ≫[詳細・申込み](https://www.science-t.com/seminar/B260970.html?utm_source=SEMI-NET&utm_medium=referral&utm_campaign=B260970)

2026/09/07 サイエンス＆テクノロジー(株) 株式会社

イベント・セミナー

【9/30開催セミナー】レジストリソグラフィー技術の基礎と実務およびトラブル対策

◇日時：2026年9月30日（水） 13:00～16:30　 ◇受講料(税込)：49,500円　※2名同時申込みで1名分無料等、各種割引特典有　 ◇受講可能な形式：【ライブ配信】or【アーカイブ配信】　 ◇概略：フォトレジスト材料の特性、プロセス最適化、付着・濡れ・欠陥等への対応策、評価手法などを解説するセミナーです。ぜひこの機会にご参加ください。 ≫[詳細・申込み](https://www.science-t.com/seminar/B260950.html?utm_source=SEMI-NET&utm_medium=referral&utm_campaign=B260950)

2026/09/04 サイエンス＆テクノロジー(株) 株式会社

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