セミナー「2nm世代以降の半導体技術の動向と展望　〜最先端の微細化/ゲート/配線技術を徹底解明〜」

2024/10/07 グローバルネット株式会社

講演：若林整氏（東京科学大学）/中村剛氏（TOK）/野上毅氏（IBM）

本セミナーでは、2nm世代以降の半導体技術に焦点を当て、プロセス技術、リソグラフィ技術、そしてロジック配線技術の最新動向を詳しく解説します。現在の半導体産業では、2nm以下の微細化が進む中で、技術開発はますます高度化し、複雑化しています。本セミナーでは、最前線で活躍する専門家が、2nm以降の技術課題や新たな技術革新の方向性について、具体的な事例を交えながら説明します。

ご講演：
「2nm以下時代のプロセス技術開発の現状と展望」
講師：若林整氏（東京科学大学　旧東京工業大学）

「2nm世代以降のリソグラフィ技術動向 – 最新レジスト技術」
講師：中村剛氏（東京応化工業株式会社）

「2nm以降のロジック配線技術開発の動向」
講師：野上毅氏（IBM ）

開催日時：2024年10月25日（金）13:00〜17:00
開催場所：【会場】プラザエフ（四ツ谷駅より徒歩1分）
　　　　　【オンライン】zoom
受講料：個人参加（会場/オンライン）：30,800円（税込み）
　　　　5名までのグループ参加（オンラインのみ）：63,800円（税込み）
ご講演：
「2nm以下時代のプロセス技術開発の現状と展望」
講師：若林整氏（東京科学大学　旧東京工業大学）

「2nm世代以降のリソグラフィ技術動向 – 最新レジスト技術」
講師：中村剛氏（東京応化工業株式会社）

「2nm以降のロジック配線技術開発の動向」
講師：野上毅氏（IBM ）

お申し込み・詳細：https://global-net.co.jp/archives/10012

グローバルネット株式会社

業種：産業用電気機器所在地：東京都中央区湊 1-2-10 堀川ビル6F

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グローバルネット株式会社（GNC）は出版やセミナーを通して、半導体やフラットパネルディスプレイの情報をタイムリーに提供することを目的に1990年に設立しました。そして2020年には創業30年を迎えます。
1994年にCMPプラナリゼーション委員会の事務局として活動する機会を経て、会員の皆様にCMP向け層間絶縁膜用テストウエハの提供を始めたことがきっかけとなり、テストウエハの試作・加工ファンドリビジネスに参入、事業化を致しました。

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