【9/30開催セミナー】半導体ウェット洗浄の基礎・実践と最新洗浄技術
2026/09/07 サイエンス＆テクノロジー(株) 株式会社
◇日時：2026年9月30日（水） 13:00～16:30◇受講料(税込)：49,500円 ※2名同時申込みで1名分無料等、各種割引特典有
◇受講可能な形式：【ライブ配信】or【アーカイブ配信】
◇概略：パーティクル除去・再付着・パターンダメージ・帯電／ESD・乾燥不良の原因と対策などを解説するセミナーです。ぜひこの機会にご参加ください。
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◇講師
愛知工業大学 工学部 電気学科 教授 博士（工学） 清家 善之 氏
◇講演趣旨抜粋
半導体デバイスの微細化・高集積化に伴い、ウェット洗浄には、微小・ナノパーティクルを高い除去率で取り除く一方で、微細パターンを壊さず、再付着、ウォーターマーク、乾燥不良、帯電・ESDを抑えるという相反する要求が強まっています。現場では、流量や圧力、ノズル距離、周波数、回転数、薬液濃度、処理時間などを個別に変更しても、除去率のばらつきや新たなダメージが生じ、条件設定の根拠をつかみにくいことが少なくありません。
本セミナーでは、ウェット洗浄の基礎から出発し、パーティクルの付着・除去・再付着を界面、流体、機械力、静電気の観点から体系的に解説します。薬液洗浄に加え、二流体スプレー、メガソニック／超音波、高圧ジェット、ブラシなどの物理洗浄、IPAを用いた洗浄・乾燥、オゾン水・水素水・CO?水等の機能水を取り上げます。さらに、表面電位・発生電流の計測、帯電制御、ナノパーティクルへの対応、低薬液・低環境負荷プロセスまで扱います。洗浄力を上げるだけでなく、『取る・再び付けない・壊さない・きれいに乾かす』を両立するために、どの現象を見て、どのパラメータを振り、何を測定・評価すべきかを、現場実務に結び付けて学びます。
◇講演プログラム抜粋
1．半導体洗浄における不良発生
1-1 半導体デバイス構造と微細化の進展
1-2 製造プロセスにおける洗浄の役割
1-3 なぜ洗浄不良は発生するのか
1-4 化学洗浄と物理洗浄の役割分担
1-5 先端半導体における洗浄工程の重要性
2．パーティクル付着・除去メカニズムと物理洗浄の本質
2-1 パーティクル付着理論（DLVO理論）
2-2 除去を支配する力学（流体・音響・接触）
2-3 水流を用いた洗浄原理
2-4 高圧スプレー洗浄
2-5 二流体スプレー洗浄
2-6 メガソニック洗浄
2-7 ブラシ洗浄
2-8 プロセスに応じた洗浄手法の使い分け
① 除去対象別の最適手法
② 過剰洗浄・ダメージの考え方
③ 安全・信頼性リスク
3．洗浄プロセスにおける静電気障害と歩留まり不良
3-1 洗浄工程における静電気障害の実例
3-2 スプレー時に発生する帯電メカニズム
3-3 静電気対策技術
① 炭酸水および機能水による効果
② 新たな帯電制御技術
4．次世代洗浄技術とプロセス最適化の方向性
4-1 次世代物理洗浄技術
① インクジェット洗浄
② 超臨界洗浄
③ ピンポイント洗浄
④ Solid Phase Clean洗浄
4-2 プロセス最適化の考え方
① 条件設計の指針
② 再現性確保のポイント
5．国際会議動向と今後の技術トレンド
5-1 UCPSS・SCSTの最新動向
取扱企業
サイエンス＆テクノロジー(株) 株式会社
業種：サービス業 所在地：東京都 港区浜松町1-2-12 浜松町F-1ビル7F
「情報を必要とする人」と「情報を持つ人」の結び目に
現在では、多くの情報を誰でも容易に得ることができるようになりました。しかし、依然として、“自分が本当に必要な正確な情報” は獲得できない状況にあることに変わりはありません。また、それを得るためには、業種・企業・産官学・社会的立場・人脈・年齢・物理的な距離の問題など、乗り越えなければならない多くの壁があることも事実です。
一方、社会へ貢献できる貴重な情報を持ちながらも、必要な人々へ伝達・発信することができないという壁も存在しています。当社は、皆様に代わって「壁」を超え、必要とする人と情報を与える人を結びつける役割を担います。
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【9/30開催セミナー】半導体ウェット洗浄の基礎・実践と最新洗浄技術
◇日時：2026年9月30日（水） 13:00～16:30 ◇受講料(税込)：49,500円 ※2名同時申込みで1名分無料等、各種割引特典有 ◇受講可能な形式：【ライブ配信】or【アーカイブ配信】 ◇概略：パーティクル除去・再付着・パターンダメージ・帯電／ESD・乾燥不良の原因と対策などを解説するセミナーです。ぜひこの機会にご参加ください。 ≫[詳細・申込み](https://www.science-t.com/seminar/B260970.html?utm_source=SEMI-NET&utm_medium=referral&utm_campaign=B260970)2026/09/07 サイエンス＆テクノロジー(株) 株式会社
【9/30開催セミナー】レジストリソグラフィー技術の基礎と実務およびトラブル対策
◇日時：2026年9月30日（水） 13:00～16:30 ◇受講料(税込)：49,500円 ※2名同時申込みで1名分無料等、各種割引特典有 ◇受講可能な形式：【ライブ配信】or【アーカイブ配信】 ◇概略：フォトレジスト材料の特性、プロセス最適化、付着・濡れ・欠陥等への対応策、評価手法などを解説するセミナーです。ぜひこの機会にご参加ください。 ≫[詳細・申込み](https://www.science-t.com/seminar/B260950.html?utm_source=SEMI-NET&utm_medium=referral&utm_campaign=B260950)2026/09/04 サイエンス＆テクノロジー(株) 株式会社
【9/29開催セミナー】半導体市場の動向と半導体産業の今後の見通し
◇日時： 2026年9月29日（火） 13:00～16:30 ◇受講料(税込)：49,500円 ※2名同時申込みで1名分無料等、各種割引特典有 ◇受講可能な形式：【ライブ配信(見逃し配信付)】 ◇概略：グロスバーグ合同会社 代表 大山 聡 氏が3時間で半導体産業の動向を把握するセミナーです。ぜひこの機会にご参加ください。 ≫[詳細・申込み](https://www.science-t.com/seminar/A260989.html?utm_source=SEMI-NET&utm_medium=referral&utm_campaign=A260989)2026/09/03 サイエンス＆テクノロジー(株) 株式会社
