【10/22開催セミナー】半導体製造プロセスにおけるフィルタ技術の基礎と選定・活用
2026/09/16 サイエンス＆テクノロジー(株) 株式会社
◇日時：2026年10月22日（木） 13:00～16:30◇受講料(税込)：49,500円 ※2名同時申込みで1名分無料等、各種割引特典有
◇受講可能な形式：【ライブ配信(見逃し配信付)】
◇概略：半導体薬液中の汚染物質の影響と汚染管理の基本的な考え方から、フィルタの種類・基礎原理、ろ過膜の特性と評価方法、半導体製造プロセスにおけるフィルタの活用、要求性能、プロセス条件に応じたフィルタ選定のポイント、金属除去フィルタの除去メカニズムと性能評価、先端半導体におけるフィルタ技術動向まで、半導体製造用フィルタメーカーの講師が実務的な観点から解説するセミナーです。ぜひこの機会にご参加ください。
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◇講師
日本インテグリス合同会社 Lead Application Engineer 三浦 こずえ 氏
◇講演趣旨抜粋
半導体デバイスの微細化・高性能化に伴い、製造プロセスにおける汚染管理の重要性はますます高まっています。フィルタは、パーティクル、金属、有機物などの不純物を除去し、製品品質や歩留まり向上に重要な役割を果たしています。
本講演では、フィルタの基礎原理から用途別の活用方法、不純物除去メカニズム、選定・評価の考え方までを体系的に解説します。
◇講演プログラム抜粋
１．半導体薬液中の不純物
1.1 汚染物質の種類
1.2 汚染物質の由来
1.3 汚染物質の及ぼす影響
２．フィルタの基礎
2.1 ろ過膜の定義と種類
2.2 フィルタの種類と構成
2.3 粒子捕捉メカニズム
2.4 ろ過膜の特性と評価方法
2.5 膜材質と濡れ性
2.6 親水化処理
2.7 目詰まりとフィルタ寿命
３．半導体プロセスにおけるフィルタ用途と選定のポイント
3.1 フォトリソグラフィ工程におけるフィルタ用途
3.2 高純度薬液におけるフィルタ用途
3.3 フィルタに求められる性能
3.4 プロセス条件に応じたフィルタ選定のポイント
3.5 フィルタ適用事例
3.6 先端半導体におけるフィルタ技術動向
４．金属除去フィルタ
4.1 金属除去フィルタとは？
4.2 金属除去メカニズム
4.3 金属除去フィルタの性能評価方法
4.4 有機溶剤中の金属除去について
取扱企業
サイエンス＆テクノロジー(株) 株式会社
業種：サービス業 所在地：東京都 港区浜松町1-2-12 浜松町F-1ビル7F
「情報を必要とする人」と「情報を持つ人」の結び目に
現在では、多くの情報を誰でも容易に得ることができるようになりました。しかし、依然として、“自分が本当に必要な正確な情報” は獲得できない状況にあることに変わりはありません。また、それを得るためには、業種・企業・産官学・社会的立場・人脈・年齢・物理的な距離の問題など、乗り越えなければならない多くの壁があることも事実です。
一方、社会へ貢献できる貴重な情報を持ちながらも、必要な人々へ伝達・発信することができないという壁も存在しています。当社は、皆様に代わって「壁」を超え、必要とする人と情報を与える人を結びつける役割を担います。
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【11/30開催セミナー】特許情報からみた光電融合 材料・技術開発戦争［2026］
◇日時：2026年11月30日（月） 10:30～16:30 ◇受講料(税込)：60,500円 ※2名同時申込みで1名分無料等、各種割引特典有 ◇受講可能な形式：【ライブ配信(見逃し配信付)】のみ ◇概略：光源、光ファイバー、ガラス／ポリマー光導波路、光コネクタ、光変調器から、光電融合用接着剤、液浸対応接着剤・封止材、層間絶縁材料、インターポーザ／基板、液浸冷却液まで。低消費電力・伝送損失の低減、低遅延・高帯域幅、高密度化、透過率・屈折率、実装信頼性・光結合精度、耐熱・低熱膨張、反り抑制、液浸冷却への対応など、各社の最新の取り組みと競争の行方を特許情報・公開情報から読み解いていくセミナーです。ぜひこの機会にご参加ください。 ≫[詳細・申込み](https://www.science-t.com/seminar/A261130.html?utm_source=SEMI-NET&utm_medium=referral&utm_campaign=A261130)2026/10/28 サイエンス＆テクノロジー(株) 株式会社
【11/26開催セミナー】製品開発における信頼性設計と加速試験実施上のポイント
◇日時：2026年11月26日（木） 10:00～16:30 ◇受講料(税込)：55,000円 ※2名同時申込みで1名分無料等、各種割引特典有 ◇受講可能な形式：【ライブ配信】 or【アーカイブ配信】のみ ◇概略：信頼性設計の要点と加速試験を進める上での注意点やデータの取り方・見方などを解説するセミナーです。ぜひこの機会にご参加ください。 ≫[詳細・申込み](https://www.science-t.com/seminar/B261146.html?utm_source=SEMI-NET&utm_medium=referral&utm_campaign=B261146)2026/10/25 サイエンス＆テクノロジー(株) 株式会社
【11/25開催セミナー】半導体封止技術の基礎と封止材料開発動向
◇日時：2026年11月25日（水） 10:30～16:00 ◇受講料(税込)：55,000円 ※2名同時申込みで1名分無料等、各種割引特典有 ◇受講可能な形式：【ライブ配信(見逃し配信付)】 ◇概略：第1部 「半導体の封止プロセスと封止材料の基本技術 ―設計技術に焦点を当て―」第2部 「半導体封止材の基礎と最新開発動向」と題して２名の講師より解説するセミナーです。ぜひこの機会にご参加ください。 ≫[詳細・申込み](https://www.science-t.com/seminar/B261125.html?utm_source=SEMI-NET&utm_medium=referral&utm_campaign=B261125)2026/10/23 サイエンス＆テクノロジー(株) 株式会社
