【10/22開催セミナー】半導体製造プロセスにおけるフィルタ技術の基礎と選定・活用
2026/09/16 サイエンス＆テクノロジー(株) 株式会社
◇日時：2026年10月22日（木） 13:00～16:30◇受講料(税込)：49,500円 ※2名同時申込みで1名分無料等、各種割引特典有
◇受講可能な形式：【ライブ配信(見逃し配信付)】
◇概略：半導体薬液中の汚染物質の影響と汚染管理の基本的な考え方から、フィルタの種類・基礎原理、ろ過膜の特性と評価方法、半導体製造プロセスにおけるフィルタの活用、要求性能、プロセス条件に応じたフィルタ選定のポイント、金属除去フィルタの除去メカニズムと性能評価、先端半導体におけるフィルタ技術動向まで、半導体製造用フィルタメーカーの講師が実務的な観点から解説するセミナーです。ぜひこの機会にご参加ください。
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◇講師
日本インテグリス合同会社 Lead Application Engineer 三浦 こずえ 氏
◇講演趣旨抜粋
半導体デバイスの微細化・高性能化に伴い、製造プロセスにおける汚染管理の重要性はますます高まっています。フィルタは、パーティクル、金属、有機物などの不純物を除去し、製品品質や歩留まり向上に重要な役割を果たしています。
本講演では、フィルタの基礎原理から用途別の活用方法、不純物除去メカニズム、選定・評価の考え方までを体系的に解説します。
◇講演プログラム抜粋
１．半導体薬液中の不純物
1.1 汚染物質の種類
1.2 汚染物質の由来
1.3 汚染物質の及ぼす影響
２．フィルタの基礎
2.1 ろ過膜の定義と種類
2.2 フィルタの種類と構成
2.3 粒子捕捉メカニズム
2.4 ろ過膜の特性と評価方法
2.5 膜材質と濡れ性
2.6 親水化処理
2.7 目詰まりとフィルタ寿命
３．半導体プロセスにおけるフィルタ用途と選定のポイント
3.1 フォトリソグラフィ工程におけるフィルタ用途
3.2 高純度薬液におけるフィルタ用途
3.3 フィルタに求められる性能
3.4 プロセス条件に応じたフィルタ選定のポイント
3.5 フィルタ適用事例
3.6 先端半導体におけるフィルタ技術動向
４．金属除去フィルタ
4.1 金属除去フィルタとは？
4.2 金属除去メカニズム
4.3 金属除去フィルタの性能評価方法
4.4 有機溶剤中の金属除去について
取扱企業
サイエンス＆テクノロジー(株) 株式会社
業種：サービス業 所在地：東京都 港区浜松町1-2-12 浜松町F-1ビル7F
「情報を必要とする人」と「情報を持つ人」の結び目に
現在では、多くの情報を誰でも容易に得ることができるようになりました。しかし、依然として、“自分が本当に必要な正確な情報” は獲得できない状況にあることに変わりはありません。また、それを得るためには、業種・企業・産官学・社会的立場・人脈・年齢・物理的な距離の問題など、乗り越えなければならない多くの壁があることも事実です。
一方、社会へ貢献できる貴重な情報を持ちながらも、必要な人々へ伝達・発信することができないという壁も存在しています。当社は、皆様に代わって「壁」を超え、必要とする人と情報を与える人を結びつける役割を担います。
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【10/22開催セミナー】半導体製造プロセスにおけるフィルタ技術の基礎と選定・活用
◇日時：2026年10月22日（木） 13:00～16:30 ◇受講料(税込)：49,500円 ※2名同時申込みで1名分無料等、各種割引特典有 ◇受講可能な形式：【ライブ配信(見逃し配信付)】 ◇概略：半導体薬液中の汚染物質の影響と汚染管理の基本的な考え方から、フィルタの種類・基礎原理、ろ過膜の特性と評価方法、半導体製造プロセスにおけるフィルタの活用、要求性能、プロセス条件に応じたフィルタ選定のポイント、金属除去フィルタの除去メカニズムと性能評価、先端半導体におけるフィルタ技術動向まで、半導体製造用フィルタメーカーの講師が実務的な観点から解説するセミナーです。ぜひこの機会にご参加ください。 ≫[詳細・申込み](https://www.science-t.com/seminar/B261022.html?utm_source=SEMI-NET&utm_medium=referral&utm_campaign=B261022)2026/09/16 サイエンス＆テクノロジー(株) 株式会社
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