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SONOSYS® メガソニック洗浄ノズルシステム 製品ページ公開のお知らせ|半導体・MEMSの精密洗浄

2026/09/18 ティックコーポレーション 株式会社

このたび、ティックコーポレーション株式会社では、SONOSYS®(ソノシス)社製 メガソニック洗浄ノズルシステムの製品紹介ページを新たに公開いたしました。
https://ticjapan.com/products/sonosys-megasonic/

このたび、ティックコーポレーション株式会社では、SONOSYS®(ソノシス)社製 メガソニック洗浄ノズルシステムの製品紹介ページを新たに公開いたしました。

SONOSYS®のメガソニック洗浄技術は、600kHz~9MHzクラスの高周波エネルギーを利用し、半導体ウェーハやフォトマスク、MEMSなどの微細構造へのダメージを抑えながら、微細なパーティクルを除去する精密洗浄技術です。

新しい製品ページでは、SONOSYS®独自のメガソニック技術をはじめ、シングル・ダブル・トリプルノズルの特長や、半導体・MEMS・光学部品などの用途について詳しくご紹介しています。

メガソニック洗浄とは?

メガソニック洗浄は、一般的な超音波洗浄よりも高い周波数を使用することで、微細構造への影響を抑えながら、ナノ・ミクロンレベルの微粒子除去を目的とする洗浄技術です。特に、半導体ウェーハ、EUVフォトマスク、MEMS、LCD・FPD基板、光学部品など、高い清浄度が求められる製造工程で利用されています。

半導体・精密部品の洗浄工程で、

・微細パーティクルを除去したい
・基板や微細パターンへのダメージを低減したい
・超純水(DI Water)を使用した精密洗浄を検討したい
・600kHz、1MHzをはじめとする高周波メガソニック洗浄を評価したい

といった課題をお持ちの方は、ぜひ新しい製品ページをご覧ください。

▶ SONOSYS® メガソニック洗浄ノズルシステム 製品ページ
https://ticjapan.com/products/sonosys-megasonic/

製品仕様、評価・テスト、用途に関するご相談についても、お気軽にお問い合わせください。

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