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アメリカの製品一覧

3000XPを取得
Applied Materials,Inc

高エネルギーイオン注入措置

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2xnmノード以降の量産向け中電流イオン注入装置

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高生産性中電流イオン注入装置

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高生産性高電流イオン注入装置

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斜角トライデント
Applied Materials,Inc

最先端プロセス向け高電流イオン注入装置

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Endura CirrusRTPVDコバルト
Applied Materials,Inc

Co薄膜形成用PVDシステム

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エンデュラアンバーPVD
Applied Materials,Inc

Cuシード層形成用PVD装置

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200mm/300mmウェーハ対応配線用量産スパッタリング装

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ENDURAR AVENIR RF PVD
Applied Materials,Inc

Endura AvenirシステムのRF PVD技術は、High-k/メタルゲートアプリケーションと同様、22nm世代以降のロジックコンタクトのシリサイド化にも適応…

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ENDURA ALPSR PVD(ALPS CO&NI)
Applied Materials,Inc

高アスペクト比のゲートやコンタクトアプリケーション向けに、シンプルかつ高性能なシリサイドソリューションを提供します。

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