EUV装置の製品一覧

光源に波長13.5nmのEUVを用い、10nm以下の微細パターンを転写する露光装置

FPA-1200NZ2C

キヤノン株式会社

ナノインプリントリソグラフィのパイオニア 2022年「第49回 環境賞」を受賞。次世代のNILリソグラフィ装置

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TWINSCAN EXE-5000

ASML Holding Ltd,.

次世代EUVリソグラフフィシステム

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TWINSCAN NXE:3600D

ASML Holding Ltd,.

同社の最先端量産用EUVリソグラフィシステム

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TWINSCAN NXE:3400C

ASML Holding Ltd,.

量産用EUV露光装置

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