リソグラフィ装置の製品一覧

ウェーハ上にパターンを転写、描画するための装置

MBM-3000

株式会社ニューフレアテクノロジー

2nmノード対応最先端マルチビームマスク描画装置

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半導体製造装置レガシーハードウェア制御系仮想化システム

株式会社渡辺商行

半導体製造装置の長期利用と維持改善・装置維持のためのサポート終了対応の救世主。 老朽化する高価半導体製造装置の制御系延命処置。

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CMS-Ck

株式会社サーマプレシジョン

フルサイズパネル量産投影露光装置

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FDi-MP

株式会社オーク製作所

高性能ICパッケージ基板等の回路形成向け高性能ダイレクト露光装置

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PPS-8200/8300

株式会社オーク製作所

WL-CSP,IGBT,CIS等の多様なアプリケーションに対応したリソグラフィシステム(6/8/12インチ対応)。

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INPREX

株式会社アドテックエンジニアリング

世界の先進ユーザーが選び続けるダイレクト露光装置

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PARAGON ULTRA 300

Orbotech

FC-BGA/FC-CSPやBGA/CSP基板向けDI装置

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アクティブ除振ユニット【リニアモーター制御】LHKP type 制振リニアアクティブ除振台

倉敷化工株式会社

リニアモーター制御と空圧制御の両方の長所を追求した最高性能の除振台

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GT66A

ギガフォトン株式会社

さらなるテクノロジーの要求に応えるArF液浸露光光源

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G60K

ギガフォトン株式会社

従来の150%の高出力を実現し、将来のさらなる出力要求に対応するKrF露光用光源

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