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GT66A

さらなるテクノロジーの要求に応えるArF液浸露光光源

1.最先端ノードでのイールド改善
 新開発の光学モジュールによりスペックルコントラストを30%低減によるLER/LWRの改善を実現しました。これにより、リソグラフィ最先端ノード量産における、さらなるイールド改善を提供します。
2.高水準のアベイラビリティ
 最新の高耐久性部品を導入することにより、モジュールのメンテナンスサイクルを30%延長しました。これにより高水準のアベイラビリティを実現し、生産性向上に貢献します。
3.サステナビリティソリューションの提供
 ヘリウムフリー技術の標準装備で、希ガスの供給不足リスクに備えるほか、ユーティリティの消費量削減技術により環境にも配慮した光源です。

基本情報

発振波長 193 nm
出力 60-90W
発振周波数 6,000 Hz
スペクトル幅(95 %エネルギー積算-E95) 300 +/- 1.5fm wafer average
特徴 EPE低減ソリューション
Continuous Reliability Improvement (CRI) Package
サステナビリティソリューション

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取扱企業

ギガフォトン株式会社

業種:光学機器  所在地:栃木県 小山市大字横倉新田 400

光源で次世代リソグラフィ技術に貢献

小松製作所の子会社。2004年、インジェクションロック技術を採用した、ツインチャンバの量産型ArFエキシマレーザを世界に先がけて製品化し て以来、液浸露光・ダブルパターニング露光等の最新リソグラフィー技術に対応した最新型ArFエキシマレーザを次々と市場に供給している。

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