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半導体の設計、エンジニアリングを支援するためのツール

最先端 デバイスパターンの深穴・溝底の回路線幅計測と、実デバイスパターン上でのオーバーレイ計測を可能とする高加速CD-SEM

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1Xnm世代開発及び22nm世代量産プロセス対応測長SEM

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高分解能FEB測長装置(CD-SEM) CG6300 は、電子光学系を一新することにより分解能を高め、測長再現性および画質の向上を図りました。

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4、6、8インチのウェーハサイズに対応した測長SEM

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