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CG6300
株式会社日立ハイテク
高分解能FEB測長装置(CD-SEM) CG6300 は、電子光学系を一新することにより分解能を高め、測長再現性および画質の向上を図りました。
CG5000
1Xnm世代開発及び22nm世代量産プロセス対応測長SEM
CV5000
最先端 デバイスパターンの深穴・溝底の回路線幅計測と、実デバイスパターン上でのオーバーレイ計測を可能とする高加速CD-SEM
CS4800
4、6、8インチのウェーハサイズに対応した測長SEM
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株式会社 日立ハイテク
同社は「見る・測る・分析する」というコア技術をその時々の最先端分野の課題を解決できるレベルにまで引き上げ、半導体産業に貢献してきた。現…
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