エリプソメータの製品一覧

光を利用して、単層、多層構造の薄膜の膜厚を測定する機器

国内No.1の販売実績を誇る多機能光干渉式膜厚測定装置

詳細を確認する

loT向け電子デバイスに対応したエリプソ式膜厚測定装置

詳細を確認する

製造ラインへの導入も可能な卓上型光干渉式膜厚測定装置

詳細を確認する

R&Dに最適な顕微鏡モデル光干渉式膜厚測定装置

詳細を確認する

VERTEXR Revolution/Ⅲ
Kokusai Electric株式会社

200mmウェーハ対応バッチサーマルプロセス装置

詳細を確認する

高生産性縦型装置

詳細を確認する

次世代デバイス、特に3次元(立体構造)デバイスに向けた成膜品質向上の市場ニーズにこたえる高品質成膜・高性能半導体製造装置

詳細を確認する

TANDUO(SEMICON Japan 2020 Virtual出展)
Kokusai Electric株式会社

プロセスに応じたモジュール選択により、キュア、アニール、デガス等に合わせた最適なシステムを提供する事ができます。

詳細を確認する

ウエハ全面高速膜厚測定システム

株式会社ヒューテック

ウエハ全面の膜厚を高速測定可能な膜厚測定システム。秒間40,000ポイントをIn-Situ測定することで成膜条件や装置の異常を素早くフィードバック。

詳細を確認する

PFSシリーズ

株式会社アルバック

SiC プロセス等の高温での処理が必要な工程にマッチングさせた活性化アニール装置です。

詳細を確認する
全 10 件中 1 ~ 10 件を表示中
表示件数: