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ウエハ全面高速膜厚測定システム

株式会社ヒューテック
最終更新日: 2023年04月06日

ウエハ全面の膜厚を高速測定可能な膜厚測定システム。秒間40,000ポイントをIn-Situ測定することで成膜条件や装置の異常を素早くフィードバック。

・ラインカメラとLED光源を使用した測定システム
・ユニットを既存の装置(EFEM等)に組み込むことが可能
・カメラ下をウエハが一度通過するだけで全面の膜厚を測定
・可動部がないためパーティクル落下などのリスクを低減

<主な特徴>
【全面測定】
  - ウエハ全面の膜厚分布傾向を管理可能
  - 定点監視では難しいスポット状の膜厚異常を見つけることが可能
【高速測定】
  - 12inchウエハの場合、40,000point/secで測定可能
  - 装置内でウエハをロボット搬送中に測定
【フィードバック機能】
  - 測定結果をヒートマップとグラフでモニター表示
  - 膜厚測定値を座標データとセットでアウトプット

基本情報

測定可能膜厚範囲:0.02~30µm
測定精度:0.05~1%
最大同時測定層数:4層
最小表示分解能:0.01nm

主な機能
・測定用レシピ登録
・膜厚異常検査
・膜厚測定データ保存
・膜厚測定データ出力

価格帯 開発中につき詳細は直接ご相談ください。
納期 開発中につき詳細は直接ご相談ください。
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取扱企業

株式会社ヒューテック

業種:試験・分析・測定  所在地:香川県 林町 1217番地

ロールtoロールの検査装置業界で国内トップシェア 高速測定技術を半導体の膜厚測定に適応

株式会社ヒューテックはロールtoロールの業界で検査装置、測定機の専業メーカーとして長年にわたり技術を培ってきました。半導体業界においてもウエハの膜厚測定を「In-situ」「全面」「全数」にこだわり製品開発をおこなっております。

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