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CG6300
株式会社日立ハイテク
高分解能FEB測長装置(CD-SEM) CG6300 は、電子光学系を一新することにより分解能を高め、測長再現性および画質の向上を図りました。
CG5000
1Xnm世代開発及び22nm世代量産プロセス対応測長SEM
CV5000
最先端 デバイスパターンの深穴・溝底の回路線幅計測と、実デバイスパターン上でのオーバーレイ計測を可能とする高加速CD-SEM
CS4800
4、6、8インチのウェーハサイズに対応した測長SEM
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