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Primo iDEA

Advanced Micro-Fabrication Equipment Inc. China(AMEC)
最終更新日: 2021年03月04日

チップエッチングとフォトレジスト除去のための革新的な統合ソリューションを提供する。デュアル反応プラットフォームエッチングおよび接着剤除去オールインワン装置。

 1つまたは2つのデュアル反応プラットフォームD-RIEまたはAD-RIEプロセスモジュールとリモートプラズマ源接着剤除去剤(DsA)反応チャンバーが同じプラットフォームに統合されている。中微のリモートプラズマリモートプラズマ源接着剤除去剤は、二重反応チャンバーを採用しており、オーバーヘッドリモートプラズマソース(RPS)によって生成された反応性物質は、フォトレジストを除去するためにウェーハ表面に均一に輸送される。
 この装置は同じプラットフォームでチップエッチングとフォトレジスト除去を柔軟に実行できるため、装置の設置面積が大幅に削減され、生産効率が向上できる。 Primo iDEAは、大きなコスト優位性があるソリューションを提供している。

基本情報

・リモートプラズマ源
・接着剤除去の効率が高い
・プラズマによるデバイスの損傷を回避するための高効率イオンフィルタ

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取扱企業

Advanced Micro-Fabrication Equipment Inc. China(AMEC)

業種:産業用機械 188 Taihua Road, Jinqiao Export Processing Zone (South Area), Pudong, Shanghai 201201, China 

エッチング装置、ALD装置が主力

LED向けMOCVD装置分野でシェアが拡大し、プラズマエッチング装置に参入した。TSMC、UMC、SMICなど大手ファンドリ向けで実績を残している。

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