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G60K

従来の150%の高出力を実現し、将来のさらなる出力要求に対応するKrF露光用光源

1.スキャナースループット300枚/h対応高出力化
 新型電源ユニットを導入することで、従来比150%となる60Wの出力を可能にしました。これにより、厚膜レジスト等の低感度レジストにおいてもスループットロスを抑え、かつさらなる生産性向上に貢献します。

2.既に実績のある99.9%以上のアベイラビリティ対応技術の踏襲
フィールドでの高いアベイラビリティや性能の安定性においてお客様から高い評価を得ているモデル、G41Kの技術をベースに、全ての出力域で99.9%以上のアベイラビリティを実現します。さらに、新技術を投入することでモジュール寿命を200%延長し、アベイラビリティ向上を提供します。

3.サステナビリティソリューションの提供
ヘリウムフリー技術の標準装備で、希ガスの供給不足リスクに備えるほか、ユーティリティの消費量削減技術により環境にも配慮した光源です。

基本情報

発振波長 248 nm
出力 40W - 60W
パルスエネルギー 10mJ - 15mJ
発振周波数 4000Hz
特徴 Continuous Reliability Improvement (CRI) Package
サステナビリティソリューション
・Helium Free Operation
・TGM Gas Management

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取扱企業

ギガフォトン株式会社

業種:光学機器  所在地:栃木県 小山市大字横倉新田 400

光源で次世代リソグラフィ技術に貢献

小松製作所の子会社。2004年、インジェクションロック技術を採用した、ツインチャンバの量産型ArFエキシマレーザを世界に先がけて製品化し て以来、液浸露光・ダブルパターニング露光等の最新リソグラフィー技術に対応した最新型ArFエキシマレーザを次々と市場に供給している。

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