半導体用語集
EUVの光源
英語表記：Extremly Ultra Violet
Snをプラズマ照射すると13.5nmの発光が得られ、これを微細加工用のステッパの光源として用いる。LPP（Laser Produced Plasma）とLDP（Discharge Produced Plasma）の2種類の方法が検討されている。LPPはSnの液滴を連続的に滴下し、それにレーザー光を照射してプラズマを起こし、反射鏡で反射したEUV光をスリットを通してステッパへ送る。LDPは溶融したSnをディスク表面に付着させ、隣のディスクに転写し、それにレーザー光を照射してプラズマを起こし、反射鏡で反射したEUV光をスリットを通してステッパへ送る。LDPは溶融したSnをディスク表面に付着させ、隣のディスクに転写し、それにレーザー光を照射する。
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