へキサメチルジシラザン
英語表記：Hexamethyldisilazane :HMDS
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へテロダイン検出
英語表記：heterodyne alignment
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ヘキソード型RIE装置
英語表記：hexode type reactive ion etching system
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ヘッド間均一性 HTH
英語表記：head to head uniformity
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ヘテロ接合
英語表記：hetero junction
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ヘリウムリークデテクタ
英語表記：helium leak detector
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ヘリカル型エッチング装置
英語表記：herical type etching equipment
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ヘリコン波エッチング装置
英語表記：hericon wave etching equipment
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ヘリコン波エッチング装置
英語表記：helicon etching system
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ヘリコン波プラズマ
英語表記：helicon wave plasma
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平均径
英語表記：mean diameter
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平均自由行程
英語表記：mean free path
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平行平板型
英語表記：parallel plate type
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平行平板型RIE装置
英語表記：arallel plate reactive ion etching system
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平行平板型 プラズマCVD装置
英語表記：diode parallel plate plasma enhanced CVD system
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平行平板型エッチング装置
英語表記：parallel flat Plane type etching eqmpment
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平衡偏析係数
英語表記：equilibrium segregation coefficient
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平坦化
英語表記：planarization
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平坦化
英語表記：Planarization
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平坦化 プラナリゼーション
英語表記：planarization
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平坦度 フラットネス
英語表記：flatness
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平坦度（TTV）
英語表記：Total Thickness Variation
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平板マグネトロン スパッタリング装置
英語表記：planar magnetron sputtering system
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平面円筒研削盤
英語表記：surface & cylindrical grinding machine
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平面円筒複合研削盤
英語表記：surface & cylindrical double(triple)head grinding machine
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並列処理
英語表記：parallel processing
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閉管法
英語表記：closed-tube method
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偏向整定時間
英語表記：deflection settling time
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偏向歪
英語表記：field distortion
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偏心小円運動ポリシング装置
英語表記：eccentric small circular movement polishing system
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偏析誘起ゲッタリング
英語表記：segregation -
induced gettering
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変形照明
英語表記：modified illumination
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変形照明 斜入射照明
英語表記：modified
illumonation
oblique incidence
illunination
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劈開面
英語表記：cleavage plane
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