半導体用語集
へキサメチルジシラザン
英語表記：Hexamethyldisilazane :HMDS
レジストの溶液中での接着力を向上させ、現像時のパターン剥がれを防止するための疎水化処理に用いる薬品。基板表面の水酸基と反応し、水酸基の水素が引き抜かれ、トリメチルシリル基に置換される(図1)。その結果、基板表面の極性成分が低下し、溶液中での接着力が改善される(密着性の項参照)。HMDSによる基板の疎水化処理としては、HMDSを窒素でバブリングし、その雰囲気に基板を暴露して行われることが多い。HMDSは空気中の水分とも容易に反応し、多量のアンモニアを発生しへキサメチルジシロキサン (Hexamethyldisiloxane) になってしまうため、空気からの遮断が必要。 また、レジストとも容易に反応し、多量のアンモニアを発生するため、廃棄などでレジスト、水溶液、極性溶剤と混触させてはいけない。
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