半導体用語集
平行平板型RIE装置
英語表記：arallel plate reactive ion etching system
エッチング室内に一対の平行平板電極を備え、一方の電極に高周波を印加し、他方の対抗する電極を接地電位とし、どちらかの電極上にウェーハを置きエッチングを行う反応性イオンエッチング装置。
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