【9/30開催セミナー】レジストリソグラフィー技術の基礎と実務およびトラブル対策
2026/09/04 サイエンス＆テクノロジー(株) 株式会社
◇日時：2026年9月30日（水） 13:00～16:30◇受講料(税込)：49,500円 ※2名同時申込みで1名分無料等、各種割引特典有
◇受講可能な形式：【ライブ配信】or【アーカイブ配信】
◇概略：フォトレジスト材料の特性、プロセス最適化、付着・濡れ・欠陥等への対応策、評価手法などを解説するセミナーです。ぜひこの機会にご参加ください。
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◇講師
国立大学法人 長岡技術科学大学 名誉教授
アドヒージョン株式会社 代表取締役社長
博士（工学） 河合 晃 氏
◇講演趣旨抜粋
レジストリソグラフィは微細加工を支える主要技術の一つであり、半導体、ディスプレイ、プリント基板、太陽電池、MEMS など、さまざまな電子産業分野で広く実用化されています。一方で、レジスト材料およびプロセス技術の高度化に伴い、これらの特性が製品に与える影響も一層大きくなっています。
本セミナーでは、フォトレジスト材料の特性、プロセス最適化の方法、付着・濡れ・欠陥といった各種トラブルへの対応策に焦点を当て、評価・解決のアプローチを丁寧に解説します。さらに、レジスト形状・寸法制御、処理条件の設定方法、研究開発やトラブル対応など、実務での具体的な進め方についても、豊富な実例を交えて紹介します。
本セミナーは、レジスト材料の開発者、レジスト処理装置の技術者、レジストユーザー、これからレジスト技術に携わる方、そしてリソグラフィ工程でトラブルを抱えている方々を対象とします。受講者の皆さまが日々直面しているトラブルやノウハウに関するご相談にも、個別に対応いたします。
◇講演プログラム抜粋
1．パターン形成の基礎
1-1 レジスト材料とプロセス
・プロセスフロー
・CAD設計
・シフト量
・ラインマッチング
・レジストの光化学反応
・ポジ、ネガ
・化学増幅型
・EUV
・TMAH溶解
・ポジ型/ネガ型の選択基準
1-2 パターン露光描画
・露光システム
・レイリーの式
・重ね合わせ技術
1-3 レジスト処理装置
・HMDS処理
・コーティング
・現像
・乾燥
・レジスト除去
2．レジスト寸法と形状最適化
2-1 コントラスト制御
・光学像コントラスト
・残膜曲線
・溶解コントラスト
・現像コントラスト
2-2 寸法と形状コントロール
・露光量／フォーカス依存性
・process window
・寸法リニアリティー
・バルク効果
・膜内多重反射
・段差部変動
・エッチング選択比
2-3 改善プロセス技術
・反射防止膜
・PEB
・マルチパターニング技術
・位相シフト技術
3．レジスト欠陥・トラブル対策
3-1 致命欠陥
・欠陥と歩留まり
・配線上異物
・致命／非致命欠陥
・ショート/オープン欠陥
・バブル欠陥
・塗布エッジ盛上り
・EBRエッジバックリンス
・接触異物
3-2 レジスト剥離
・要因
・付着エネルギー
・乾燥剥離
・応力歪み、膨潤
・検査用パターン
・DPAT法
3-3 レジスト欠陥と対策
・ストリーエーション
・膜分裂
・乾燥むら
・ソルベントクラック
・ピンホール、はじき
・膨れ
・パターン変形
・現像バブル対策
関連製品
取扱企業
サイエンス＆テクノロジー(株) 株式会社
業種：サービス業 所在地：東京都 港区浜松町1-2-12 浜松町F-1ビル7F
「情報を必要とする人」と「情報を持つ人」の結び目に
現在では、多くの情報を誰でも容易に得ることができるようになりました。しかし、依然として、“自分が本当に必要な正確な情報” は獲得できない状況にあることに変わりはありません。また、それを得るためには、業種・企業・産官学・社会的立場・人脈・年齢・物理的な距離の問題など、乗り越えなければならない多くの壁があることも事実です。
一方、社会へ貢献できる貴重な情報を持ちながらも、必要な人々へ伝達・発信することができないという壁も存在しています。当社は、皆様に代わって「壁」を超え、必要とする人と情報を与える人を結びつける役割を担います。
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【9/30開催セミナー】レジストリソグラフィー技術の基礎と実務およびトラブル対策
◇日時：2026年9月30日（水） 13:00～16:30 ◇受講料(税込)：49,500円 ※2名同時申込みで1名分無料等、各種割引特典有 ◇受講可能な形式：【ライブ配信】or【アーカイブ配信】 ◇概略：フォトレジスト材料の特性、プロセス最適化、付着・濡れ・欠陥等への対応策、評価手法などを解説するセミナーです。ぜひこの機会にご参加ください。 ≫[詳細・申込み](https://www.science-t.com/seminar/B260950.html?utm_source=SEMI-NET&utm_medium=referral&utm_campaign=B260950)2026/09/04 サイエンス＆テクノロジー(株) 株式会社
【9/29開催セミナー】半導体市場の動向と半導体産業の今後の見通し
◇日時： 2026年9月29日（火） 13:00～16:30 ◇受講料(税込)：49,500円 ※2名同時申込みで1名分無料等、各種割引特典有 ◇受講可能な形式：【ライブ配信(見逃し配信付)】 ◇概略：グロスバーグ合同会社 代表 大山 聡 氏が3時間で半導体産業の動向を把握するセミナーです。ぜひこの機会にご参加ください。 ≫[詳細・申込み](https://www.science-t.com/seminar/A260989.html?utm_source=SEMI-NET&utm_medium=referral&utm_campaign=A260989)2026/09/03 サイエンス＆テクノロジー(株) 株式会社
【9/29開催セミナー】AIデータセンター向け超高速光トランシーバの最新動向
◇日時：2026年9月29日（火） 14:00～16:00 ◇受講料(税込)：41,800円 ※2名同時申込みで1名分無料等、各種割引特典有 ◇受講可能な形式：【ライブ配信】or【アーカイブ配信】 ◇概略：高速化・低消費電力化・定遅延化に向けた光トランシーバの現状と今後の技術トレンド、NPO/CPOの開発動向とAIクラスタにおけるネットワークへの導入の見通しなど℃を解説するセミナーです。ぜひこの機会にご参加ください。 ≫[詳細・申込み](https://www.science-t.com/seminar/A260929.html?utm_source=SEMI-NET&utm_medium=referral&utm_campaign=A260929)2026/09/02 サイエンス＆テクノロジー(株) 株式会社
