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ナノインプリント技術は、1995年にStephen Y. Chou教授が従来のリソグラフィーを超える革新的な機械的パターニングとして開発され、当時10nmの超高解像度を達成しました。2025年に30周年を迎えるこの技術は、0.3nm解像度や大面積パターニングを実現し、半導体、AR/VR、バイオセンサー、光通信など先端産業を牽引しています。特に最近では、高屈折率材料のナノ加工による光導波路（傾斜型回折格子）の検討がAR/VRデバイス向けに進展しています。また高密度メモリ向けでは精密な位置合わせと欠陥ゼロという高いハードルを克服しつつあり、その実用化に向けた取り組みが加速しています。

本書では、大阪公立大学、平井義彦教授監修の元、第一線の研究者・専門家からの寄稿により、基礎原理から材料・プロセスの最適化に向けた高度なシミュレーション・材料計測技術、各種デバイス応用、成形材料・モールド・装置などの産業応用技術までを網羅しました。ナノインプリントに関連した技術開発や、ナノインプリントによる新製品創出、量産化に向けた課題解決の手がかりとしても活用可能な一冊です。

基本情報

◇配信開始日：2025年9月26日
◇フォーマット：製本版＋ebook版
※ebook版は、PDF(WEBブラウザ上または専用アプリケーション（bookend）より閲覧可能です)※ebookは印刷・データコピー不可です。
◇体裁：B5判並製本 402頁（製本版）／PDF（ebook版）
◇監修：平井義彦　大阪公立大学
◇価格(税込)：82,500円　※各種割引特典有
◇アカウント数：5アカウント　
　※購入者以外に最大4アカウントまで追加可能(無料)
◇閲覧可能PC数　：2台／1アカウント（同一アカウントに限る）
◇閲覧期間無期限
◇オフライン閲覧可能
◇対応OS・デバイス：Win・Macの両OS、スマートフォン・読書端末(iPhone,iPadなど)
◇注意事項：ebookのダウンロードは、S&T会員「マイページ」内で行いますので、S&T会員登録（無料）が必須です。
◇ISBNコード：978-4-86428-334-2
◇Cコード：C3058

◇目次概要
・はじめに
・Preface
・半導体産業におけるナノインプリントへの期待
・第1編　ナノインプリント技術の基礎
　1章ナノインプリント技術の歴史・研究～実用化のこれまで
　2章熱・光(UV)ナノインプリント技術
　3章ナノインプリントにおける分子挙動・シミュレーション・測定法
　4章室温ナノインプリント技術
　5章モールド技術
　6章離型技術
　7章ディープラーニングを活用したプロセス・材料の最適化
・第2編　ナノインプリント技術の応用
　1章 AR/VR/MRデバイスへの応用
　2章光学・半導体・電子部材とその他の最新の応用展開
　3章ナノインプリントの産業応用を促進する材料・モールド・装置の開発動向

価格帯	1万円以上 10万円未満
納期	1週間以内

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サイエンス＆テクノロジー(株)株式会社

業種：サービス業所在地：東京都港区浜松町1-2-12 浜松町F-1ビル7F

「情報を必要とする人」と「情報を持つ人」の結び目に

現在では、多くの情報を誰でも容易に得ることができるようになりました。しかし、依然として、“自分が本当に必要な正確な情報” は獲得できない状況にあることに変わりはありません。また、それを得るためには、業種・企業・産官学・社会的立場・人脈・年齢・物理的な距離の問題など、乗り越えなければならない多くの壁があることも事実です。
一方、社会へ貢献できる貴重な情報を持ちながらも、必要な人々へ伝達・発信することができないという壁も存在しています。当社は、皆様に代わって「壁」を超え、必要とする人と情報を与える人を結びつける役割を担います。

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