Applied Materials,Incの製品一覧

ViiSTA HCP

Applied Materials,Inc

高生産性高電流イオン注入装置

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Viista Trident

Applied Materials,Inc

最先端プロセス向け高電流イオン注入装置

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Endura Cirrus RT PVD Cobalt

Applied Materials,Inc

Co薄膜形成用PVDシステム

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ENDURA AMBER PVD

Applied Materials,Inc

Cuシード層形成用PVD装置

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AXCELA PVD

Applied Materials,Inc

200mm/300mmウェーハ対応配線用量産スパッタリング装

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ENDURAR AVENIR RF PVD

Applied Materials,Inc

Endura AvenirシステムのRF PVD技術は、High-k/メタルゲートアプリケーションと同様、22nm世代以降のロジックコンタクトのシリサイド化にも適応…

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ENDURA ALPSR PVD (ALPS CO & NI)

Applied Materials,Inc

高アスペクト比のゲートやコンタクトアプリケーション向けに、シンプルかつ高性能なシリサイドソリューションを提供します。

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CENTRIS SYM3エッチング装置

Applied Materials,Inc

1x/10nmノード以降の大量生産用の重要なエッチングアプリケーションにおいて、世界トップクラスのウェーハ間の均一性を前例のないチップ内図形制…

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