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Endura Cirrus RT PVD Cobalt

Applied Materials,Inc
最終更新日: 2021年06月11日

Co薄膜形成用PVDシステム

Co配線プロセスで最初のCo薄膜形成に使用する装置。CVDで形成されるCo配線の密着層膜を形成する。

基本情報

Co薄膜形成用PVD「Endura Cirrus RT PVD Cobalt」、CVD配線成膜用CVD「Endura Volta CVD CoEndura」、アニール後のCo厚膜形成用「Applied Endura Versa XT PVD Co」を1システムに統合可能となっている。

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取扱企業

Applied Materials,Inc

業種:産業用機械 3050 Bowers Avenue、P.O. Box 58039、サンタクララ、CA 95054-3299、アメリカ合衆国 

半導体製造装置のトップ企業

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