【9/18開催セミナー】先端および次世代ＥＵＶリソグラフィー技術の基礎、最新技術動向と今後の展望

2026/08/27 サイエンス＆テクノロジー(株) 株式会社

◇日時：2026年9月18日（金） 10:30～16:30　
◇受講料(税込)：55,000円　※2名同時申込みで1名分無料等、各種割引特典有　
◇受講可能な形式：【ライブ配信】　
◇概略：EUVLの現状、課題、最新動向、今後の日本の半導体技術の覇権に重要な要素などを解説するセミナーです。ぜひこの機会にご参加ください。
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◇講師
兵庫県立大学高度産業科学技術研究所
次世代EUVL研究寄附講座特任教授・名誉教授　渡邊健夫　氏

◇講演趣旨抜粋
　極端紫外線リソグラフィー技術について、Low NA EUVL, High NA EUVL, Hyper NA EUV, 短波長EUVLについてリソグラフィーの特徴と、EUV光源技術、多層膜技術、光学系技術、マスク技術、レジスト技術等基盤技術全般に亘り解説します。

◇講演プログラム抜粋
１．はじめに 1.1 IoTおよびAIに期待すること
　1.2 半導体市場
　1.3 半導体国際ロードマップから読み取れること
　1.4 半導体微細加⼯技術の必要性
　1.5 今後の半導体技術動向と市場との関係
　1.6 今後の半導体技術に期待すること

２．リソグラフィー技術
　2.1 リソグラフィー技術の変遷
　2.2 黎明期のX線縮小露光技術からEUVリソグラフィー技術への展開
　2.3 EUVリソグラフィーとは EUV光源、光学系、レジスト、マスク、露光機の概要

３．兵庫県立大学でのEUVリソグラフィー技術開発の取り組み
　3.1 日本、米国のEUVLプロジェクトの変遷
　3.2 ニュースバル放射光施設の紹介

４．EUVリソグラフィー技術課題に対する取り組み
　4.1 レジスト材料プロセス技術
　4.2 マスク欠陥技術
　4.3 ペリクル技術
　4.4 光源技術

５．次世代EUVリソグラフィー
　5.1 Hyper NA
　5.2 Beyond EUV(EUVリソグラフィーの短波⻑化)

６．日本の半導体技術の過去、現在、今後日本の半導体技術の覇権に重要な要素

７．まとめ

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「情報を必要とする人」と「情報を持つ人」の結び目に

現在では、多くの情報を誰でも容易に得ることができるようになりました。しかし、依然として、“自分が本当に必要な正確な情報” は獲得できない状況にあることに変わりはありません。また、それを得るためには、業種・企業・産官学・社会的立場・人脈・年齢・物理的な距離の問題など、乗り越えなければならない多くの壁があることも事実です。
一方、社会へ貢献できる貴重な情報を持ちながらも、必要な人々へ伝達・発信することができないという壁も存在しています。当社は、皆様に代わって「壁」を超え、必要とする人と情報を与える人を結びつける役割を担います。

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【9/17開催セミナー】イチからわかる、半導体製造装置の基礎・トレンドと今後の展望（2026年秋版）

◇日時：2026年9月17日（木） 10:30～16:30　 ◇受講料(税込)：55,000円　※2名同時申込みで1名分無料等、各種割引特典有　 ◇受講可能な形式：【ライブ配信】or【アーカイブ配信】　 ◇概略：目まぐるしく動く半導体技術・市場動向。半導体製造装置周辺技術の動向を中心に解説するセミナーです。ぜひこの機会にご参加ください。 ≫[詳細・申込み](https://www.science-t.com/seminar/A260937.html?utm_source=SEMI-NET&utm_medium=referral&utm_campaign=A260937)

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