不純物導入装置(拡散装置は成膜装置内)の製品一覧

半導体中に不純物元素を微量入れてキャリア(電子または正孔(ホール))を発生させるプロセスのための処理装置

ViiSTA900 3D

Applied Materials,Inc

2xnmノード以降の量産向け中電流イオン注入装置

詳細を確認する

Viista900 XP

Applied Materials,Inc

高生産性中電流イオン注入装置

詳細を確認する

ViiSTA HCP

Applied Materials,Inc

高生産性高電流イオン注入装置

詳細を確認する

Viista Trident

Applied Materials,Inc

最先端プロセス向け高電流イオン注入装置

詳細を確認する

Purion XE

株式会社SCREENセミコンダクターソリューションズ

高エネルギーイオン注入装置(Axcelis Technologies社製)

詳細を確認する

Purion H

株式会社SCREENセミコンダクターソリューションズ

高電流イオン注入装置(Axelis Technlologies社製品)

詳細を確認する

Purion M

株式会社SCREENセミコンダクターソリューションズ

中電流イオン注入装置(Axcelis Technolgies社製品)

詳細を確認する
全 27 件中 21 ~ 27 件を表示中
表示件数: