カテゴリー

ViiSTA900 3D

Applied Materials,Inc
最終更新日: 2022年03月31日

2xnmノード以降の量産向け中電流イオン注入装置

正確なドーパントの位置と、ウェーハ内およびウェーハ間のばらつきを最小限に抑制してロジックFinFETや3Dメモリ構造のアプリケーションに対応します。さらに、これらの機能はCMOSイメージセンサ技術や最先端のプレーナ構造にも有効です。

基本情報

〇ビームラインアーキテクチャは、ビーム角の精度と正確なビーム形状の制御を実現する特別なデザインにより、正確なドーパントの位置と、ウェーハ内およびウェーハ間のばらつきを最小限に抑制してロジックFinFETや3Dメモリ構造のアプリケーションに対応します。
〇ビームラインアーキテクチャで実証済の、世界トップクラスのパーティクル性能を活用しています
〇ビーム形状とドーズ量制御の改善により、最適化されたSuperScan™ 機能がイオン注入以外の上流プロセスで生じる非均一性を修正します。SuperScan 3アルゴリズムは、ウェーハを回転させることなく、ほぼ全てのパターン要求に対応するカスタムドーズが可能になります。

お問い合わせ

取扱企業

Applied Materials,Inc

業種:産業用機械 3050 Bowers Avenue、P.O. Box 58039、サンタクララ、CA 95054-3299、アメリカ合衆国 

半導体製造装置のトップ企業

成膜、エッチング、イオン注入装置、洗浄装置、各種検査装置まで幅広いラインナップを提供しています。保守、サポート体制も充実させています。

ViiSTA900 3D へのお問い合わせ

お問い合わせいただくにはログインいただき、プロフィール情報を入力していただく必要があります。


ご依頼目的 必須

ご要望 必須

お問い合わせ ご意見等


※お問い合わせの際、以下の出展者へご連絡先(所属名、部署名、業種、名前、電話番号、郵便番号、住所、メールアドレス)が通知されます。

ViiSTA900 3D