不純物導入装置(拡散装置は成膜装置内)の製品一覧

半導体中に不純物元素を微量入れてキャリア(電子または正孔(ホール))を発生させるプロセスのための処理装置

IH-860DSIC

株式会社アルバック

SiC用高温イオン注入装置

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SOPHI-200/260

株式会社アルバック

最新技術を搭載した8、6、5インチのイオン注入装置

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IH-860DSIC

株式会社アルバック

高温ESCを搭載したSiC量産用高エネルギーイオン注入装置です。

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IMX-3500

株式会社アルバック

研究開発用中電流イオン注入装置

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SOPHI-400

株式会社アルバック

Max2400KeVまで対応可能な高エネルギーのイオン注入装置

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SOPHI-30

株式会社アルバック

低加速・高濃度対応のイオン注入装置(中電流イオン注入装置)

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IMPHEAT/IMPHEATⅡ

日新イオン機器株式会社

SiCウェーハ向け高温Alイオン注入装置

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SAion

住友重機械イオンテクノロジー株式会社

中電流・高電流の両技術を融合した、All-in-One型イオン注入装置

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SS-UHE

住友重機械イオンテクノロジー株式会社

S-UHEから生産性を向上させた高エネルギーイオン注入装置

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S-UHE

住友重機械イオンテクノロジー株式会社

高エネルギーイオン注入装置のグローバルスタンダード

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