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IMPHEAT/IMPHEATⅡ

日新イオン機器株式会社
最終更新日: 2023年09月22日

SiCウェーハ向け高温Alイオン注入装置

IMPHEATは2013年に市場投入、IMPheatⅡは2019年に発表した。SiCデバイスで要求される高温Al(アルミ)イオン注入プロセスに対応している。IMPHEATシリーズは基板温度500℃という高温でのイオン注入が可能。最大加速電圧320kV、最大エネルギーは960keVとなっている。IMPHEAT Ⅱは従来装置(IMPHEAT)よりイオンビーム量を約4倍の4mAに、生産能力を約3倍に向上(毎時100枚@300mmウェーハ)させている。また、Alのイオン化プロセスを安定させることで、装置の信頼性を高めている。IMPHEAT Ⅱは2020年から納入を開始している。

基本情報

・業界唯一の量産用高温イオン注入装置
・室温から500℃までをカバー
・実用的なスループット
・生産性に寄与する大電流Al+ビーム
・豊富な納入実績のあるEXCEEDをベースに開発

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取扱企業

日新イオン機器株式会社

業種:繊維  所在地:京都府 京都市南区久世殿城町 575

半導体、FPD用イオン注入装置メーカー

半導体用イオン注入装置では中電流装置が中心となっている。また、SiCデバイス向けのアルミイオン注入装置を実用化、トップメーカーとなっている。はFPD用装置でも実績を残している。

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