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SOPHI-30

株式会社アルバック
最終更新日: 2024年05月31日

低加速・高濃度対応のイオン注入装置(中電流イオン注入装置)

・枚葉式
・薄Wafer対応
・非質量分離機
 *非質量分離機の対比メリット
  1)低加速・高濃度対応のハイスループットイオン注入装置
   当社比で1/60の時間で可能
  2)従来より約半額の低価格
  3)装置占有面積が従来より1/3のコンパクト設計
・用途:パワーデバイス等の薄型基板プロセス、IGBTプロセス

基本情報

・ウェーハサイズ 最大200mm
・ビームを輸送する距離を極限まで短くし、ビームの輸送効率を改善することで、20keVで2E15ions/cm2の処理を、ウェーハ1枚あたり10秒の処理を可能にした。フットプリントは当社比1/3を達成した。

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取扱企業

株式会社アルバック

業種:繊維  所在地:神奈川県 茅ヶ崎市萩園 2500

イノベーションの創出で産業と科学の発展に貢献し、 豊かな未来を創造する

アルバックグループは、真空装置、コンポーネント、材料、分析機器、カスタマーソリューションなど多様な真空技術を総合的に幅広い業界向けに提供するユニークな企業グループです。
 変革の時代をチャンスととらえ、スピード感をもって様々な分野のニーズにグループ総合力とイノベーションでお応えし、産業と科学の発展に貢献することにより豊かな未来を創造していきたいと考えております。

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