東京都の製品一覧
ハイブリッド接合への応用に向けたSiCN 膜の接合メカニズム解明
グローバルネット株式会社
横浜国大、山本 泰輔
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プラズマ活性化による表面改質とウエハ接合時の挙動解析
グローバルネット株式会社
横浜国大、尾形 崚太
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UV/Dry Air 処理による半導体基板上フッ素系ポリマー膜の除去
グローバルネット株式会社
熊大院自、小石 航平
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SADP 互換EB-R プロセスによるゲートパターン作製
グローバルネット株式会社
AIST SFRC、尹 成圓
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CuI を原料とする選択CVD 法によるShallow-trench 上へのCu 成長
グローバルネット株式会社
茨城大院、宮本 裕
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次世代配線材料としてのRu 薄膜の特性評価と密着性改善
グローバルネット株式会社
慶大理工、林 凌佑
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CF4/H2プラズマによるエピタキシャル成長したSi0.7Ge0.3/Si/Si0.7Ge0.3積層膜からのSi ナノシートの形成
グローバルネット株式会社
名大院工、尾崎 孝太朗
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ヨウ化銅（I）を原料とするCVD 法によるビアホールの選択埋め込み
グローバルネット株式会社
茨城大工、難波 拓?
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Gate-all-around FET 用TiAlC/TiN 電極の実効仕事関数へのF 混入の影響
グローバルネット株式会社
産総研 先端半導体研究センター、間部 謙三
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イオン注入されたSi 基板のマイクロ波加熱
グローバルネット株式会社
沖縄高専、藤井 知
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