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顕微ラマン分光法によるTSV 周辺Si 歪の横方向分布評価

グローバルネット株式会社
最終更新日: 2025年08月19日

明治大理工、藤森 涼太

3D積層
TSV
ラマン分光

基本情報

 本研究では、3次元チップ積層技術に不可欠なTSV(Through Silicon Via)が周囲のSiに与える歪の影響を評価。従来の歪解析では試料加工による歪緩和が課題だったため、ラマン分光法を用いて詳細な歪分布を測定。異なる研磨条件でTSV周辺のSiを評価し、圧縮歪の増加を確認。結果、TSVの断面露出によって約0.5 cm??の歪緩和が生じることが判明し、歪の及ぶ距離を推定。TSVによる歪の影響をより正確に理解するための知見を提供した。

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取扱企業

グローバルネット株式会社

業種:産業用電気機器  所在地:東京都 中央区湊 1-2-10 堀川ビル6F

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グローバルネット株式会社(GNC)は出版やセミナーを通して、半導体やフラットパネルディスプレイの情報をタイムリーに提供することを目的に1990年に設立しました。そして2025年には創業35年を迎えます。
1994年にCMPプラナリゼーション委員会の事務局として活動する機会を経て、会員の皆様にCMP向け層間絶縁膜用テストウエハの提供を始めたことがきっかけとなり、テストウエハの試作・加工ファンドリビジネスに参入、事業化を致しました。

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