グローバルネット株式会社の製品一覧

UV/Dry Air 処理による半導体基板上フッ素系ポリマー膜の除去
グローバルネット株式会社

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熊大院自、小石 航平

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n-GaN のICP-RIE 加工面に対する低損傷PEC エッチングとその電気化学的評価
グローバルネット株式会社

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北大量集センター、嶋﨑 喬大

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CuI を原料とする選択CVD 法によるShallow-trench 上へのCu 成長
グローバルネット株式会社

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茨城大院、宮本 裕

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顕微ラマン分光法によるTSV 周辺Si 歪の横方向分布評価
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明治大理工、藤森 涼太

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シリコン薄膜スーパージャンクション構造を用いた横型パワーMOSFET
グローバルネット株式会社

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東大生研、李 珍秀

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高発光強度FLA を用いたMo の低抵抗化 【この成果は、国立研究開発法人新エネルギー・産業技術総合開発機構(NEDO)の「ポスト5G情報通信システム基盤強化研究開発事業」(JPNP20017)の助成事業の結果得られたものである】
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株式会社SCREEN セミコンダクターソリューションズ、吉田侃生

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無電解めっきによるCoMn 拡散バリア膜形成の検討
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関西大システム理工、新宮原 正三

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SiC MOSFET におけるAC-BTI の窒化時間依存性
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筑波大学、子安 葵

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ハイブリッド・ボンディングを適用した3 次元フラッシュメモリにおける貼り合わせ界面空隙の内圧低減技術開発
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キオクシア株式会社、大形 彩斗

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超伝導量子ビット制御用クライオCMOS における高電圧nMOSFET の低温特性
グローバルネット株式会社

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慶大理工、押尾 世文

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