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n-GaN のICP-RIE 加工面に対する低損傷PEC エッチングとその電気化学的評価

グローバルネット株式会社
最終更新日: 2025年08月19日

北大量集センター、嶋﨑 喬大

ICP-RIE
光電気化学エッチング
1/C?-V特性

基本情報

 電気化学容量―電圧(EC-V)測定法や電気化学インピーダンス(EIS)測定法は、半導体表面に電極を形成せずに電気的特性を評価できる。本研究では、ICP-RIE加工を施したn型GaN層の加工損傷回復を光電気化学(PEC)エッチングにより検討し、電気化学測定で定量評価した。結果、PECエッチング後は1/C?-V特性が順バイアス側へシフトし、リーク抵抗が増大。これにより、低損傷PECエッチングが電流リーク源の除去に有効であることが示された。

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業種:産業用電気機器  所在地:東京都 港区中央 1-2-10 堀川ビル6F

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1994年にCMPプラナリゼーション委員会の事務局として活動する機会を経て、会員の皆様にCMP向け層間絶縁膜用テストウエハの提供を始めたことがきっかけとなり、テストウエハの試作・加工ファンドリビジネスに参入、事業化を致しました。

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