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Reflexion LK Prime CMP

Applied Materials,Inc

高度なCMP装置

Centura Sculpta

Applied Materials,Inc

EUVダブルパターニングに代わる、よりシンプルで高速、かつコスト効率の高いパターニング装置

VeritySEM 10

Applied Materials,Inc

高NA EUVリソグラフィへの道を開く 新しい電子ビーム計測装置

NOKOTA　ECD

Applied Materials,Inc

高生産性ウェーハレベルパッケージ用めっき装置

CENTURA ISPRINT ALD/CVD SSW

Applied Materials,Inc

金属コンタクト用高精度成膜装置

CENTURA ULTIMA HDP-CVD

Applied Materials,Inc

数世代にわたって実用性が証明された、業界をリードするCVD装置

Centura DxZ CVD

Applied Materials,Inc

先進のMEMS、パワーデバイス、パッケージング市場での製造を支援する200mmウェーハ対応プラズマCVD装置

Viista3000XP

Applied Materials,Inc

高エネルギーイオン注入措置

ViiSTA900 3D

Applied Materials,Inc

2xnmノード以降の量産向け中電流イオン注入装置

Viista900 XP

Applied Materials,Inc

高生産性中電流イオン注入装置

ViiSTA HCP

Applied Materials,Inc

高生産性高電流イオン注入装置

Viista Trident

Applied Materials,Inc

最先端プロセス向け高電流イオン注入装置

Endura Cirrus RT PVD Cobalt

Applied Materials,Inc

Co薄膜形成用PVDシステム

ENDURA AMBER PVD

Applied Materials,Inc

Cuシード層形成用PVD装置

AXCELA PVD

Applied Materials,Inc

200mm/300mmウェーハ対応配線用量産スパッタリング装

ENDURAR AVENIR RF PVD

Applied Materials,Inc

Endura AvenirシステムのRF PVD技術は、High-k／メタルゲートアプリケーションと同様、22nm世代以降のロジックコンタクトのシリサイド化にも適応…

ENDURA ALPSR PVD (ALPS CO & NI)

Applied Materials,Inc

高アスペクト比のゲートやコンタクトアプリケーション向けに、シンプルかつ高性能なシリサイドソリューションを提供します。

CENTRIS SYM3エッチング装置

Applied Materials,Inc

1x/10nmノード以降の大量生産用の重要なエッチングアプリケーションにおいて、世界トップクラスのウェーハ間の均一性を前例のないチップ内図形制…