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VeritySEM 10

Applied Materials,Inc
最終更新日: 2023年06月16日

高NA EUVリソグラフィへの道を開く 新しい電子ビーム計測装置

EUVおよび新しい高NA EUVリソグラフィでパターニングされた半導体デバイスの微細なフィーチャー寸法を正確に測る新しい電子ビーム計測装置。業界トップの解像度とスキャン速度により、EUVおよび高NA EUVリソグラフィやエッチングプロセスの制御が改善され、半導体メーカーにおけるプロセス開発の加速と量産歩留まりの最大化を支援する。

基本情報

低ランディングエネルギーで従来のCD-SEMの2倍の解像度を実現する独自のアーキテクチャを備えています。走査も30%高速化し、フォトレジストとの反応をさらに抑えるとともにスループットも向上する。CD計測のほか半導体メーカーは、Gate-All-Around(GAA)ロジックトランジスタや3D NANDメモリなどの3Dデザインにおける微細寸法の計測にVeritySEM 10を採用して、後方散乱電子を用いた深層構造の高解像度描画を実現している。3D NANDメモリでは、本装置の視野の広さと焦点深度の深さを生かしてステアケース配線構造全体の計測が可能で、エッチングプロセスレシピのチューニングに利用している。

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取扱企業

Applied Materials,Inc

業種:産業用機械 3050 Bowers Avenue、P.O. Box 58039、サンタクララ、CA 95054-3299、アメリカ合衆国 

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