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Centura DxZ CVD

Applied Materials,Inc
最終更新日: 2022年07月08日

先進のMEMS、パワーデバイス、パッケージング市場での製造を支援する200mmウェーハ対応プラズマCVD装置

Centura DxZ SACVD装置(準常圧CVD)は、幅広いドープ(フォソフィン、ホウ素、フッ素)および非ドープギャップフィルソリューションを提供、SiのLSIだけでなく、先進のMEMS、パワーデバイス、パッケージング市場での製造を支援する。非消耗品の抵抗ヒーターとセラミック部品で、コスト、スループット、メンテナンスの容易さと信頼性を飛躍的に向上させている。

基本情報

枚葉式マルチチャンバ・アーキテクチャを活用したCentura DxZは、最大100WPH(3,000A PE TEOSとプラズマシラン)および55wph(3000A SACVD USG)のスループットを提供する。左右対称デザインと小容量のチャンバによって、成膜とクリーンな化学反応における、効率的なガス利用を達成し、全般的に低いCOO (Cost of Ownership)に貢献する。

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取扱企業

Applied Materials,Inc

業種:産業用機械 3050 Bowers Avenue,P.O. Box 58039,Santa Clara, CA 95054-3299,United States 

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