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CENTURA ULTIMA HDP-CVD

Applied Materials,Inc
最終更新日: 2022年07月08日

数世代にわたって実用性が証明された、業界をリードするCVD装置

世界で1,000台以上のUltimaシステムの出荷実績が示す通り、Applied Centura Ultima X HDP CVD (高密度プラズマ化学気相成長)は、数世代にわたって実用性が証明された、業界をリードするCVD装置です。先進のメモリおよびロジックアプリケーションにおいて、ボイドフリーのギャップフィルソリューションを提供します。

基本情報

アプライド マテリアルズの特許取得済みUltima X HDP-CVDのリアクター設計とプロセス技術は、浅溝型素子分離 (STI)、プリメタル絶縁膜(PMD)、層間絶縁膜(ILD)、 金属配線層間絶縁膜 (IMD)、パッシベーションなど、広範なアプリケーションにおいて、非ドープ (USG)膜およびドープ (PSGとFSG) 膜の双方を成長させます。

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取扱企業

Applied Materials,Inc

業種:産業用機械 3050 Bowers Avenue,P.O. Box 58039,Santa Clara, CA 95054-3299,United States 

半導体製造装置のトップ企業

成膜、エッチング、イオン注入装置、洗浄装置、各種検査装置まで幅広いラインナップを提供しています。保守、サポート体制も充実させています。

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