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Reflexion LK Prime CMP

Applied Materials,Inc
最終更新日: 2023年11月17日

最先端CMP装置

先行機種であるReflexion LK Prime CMPと同水準のCMPプロセス品質を維持しながら、処理モジュールの増設、搬送システムの能力向上により、生産性を大幅に向上させている。
ポリッシングチャンバ、クリーニングチャンバは並列処理、連続処理のいずれにも対応できる。

基本情報

・4ポリッシングパッド、6ポリッシングヘッド、8クリーニングチャンバ、2乾燥チャンバを搭載

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取扱企業

Applied Materials,Inc

業種:産業用機械 3050 Bowers Avenue,P.O. Box 58039,Santa Clara, CA 95054-3299,United States 

半導体製造装置のトップ企業

成膜、エッチング、イオン注入装置、洗浄装置、各種検査装置まで幅広いラインナップを提供しています。保守、サポート体制も充実させています。

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