結晶性の製品一覧
次世代配線材料としてのRu 薄膜の特性評価と密着性改善
グローバルネット株式会社
慶大理工、林 凌佑
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Cold wall 中H2S アニールによるPVD-MoS2膜残留硫黄抑制
グローバルネット株式会社
School of Engineering, Institute of Science Tokyo、松永 尚樹
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高濃度n 型GaN スパッタ膜の表面形態および電気的特性の成膜温度依存性
グローバルネット株式会社
名大、田中 希帆
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Si/Ge/SiO2 の低温成長とその構造及び電気特性評価
グローバルネット株式会社
山梨大、近藤 弘人
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