アクティベーションの製品一覧

フラッシュランプアニールによるエピタキシャルSi:P 層の再活性化
グローバルネット株式会社

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株式会社SCREEN セミコンダクターソリューションズ、植野 雄守

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GaN npn 構造の電流-電圧特性の解析
グローバルネット株式会社

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名大未来研、岡 徹

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プラズマ活性化による表面改質とウエハ接合時の挙動解析
グローバルネット株式会社

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横浜国大、尾形 崚太

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低温ハイブリッド接合応用に向けたSiCN 膜の界面特性解析
グローバルネット株式会社

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横浜国大、佐藤 亮輔

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ホモエピタキシャル成長n 型GaN において電子線照射によりEC − 1 eV 付近に形成される窒素変位関連トラップの熱アニール挙動
グローバルネット株式会社

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名大、遠藤 彗 堀田 昌宏(本研究に関する問合せ先)

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電流狭窄層に高抵抗歪超格子層を用いたSi 基板上AlGaN/GaN 縦型デバイス
グローバルネット株式会社

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名工大、久保 俊晴

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KrF エキシマレーザーによるβ-Ga2O3 へのSn ドーピング
グローバルネット株式会社

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九大、別府 美彩

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Mg イオン注入p-GaN におけるN イオン連続注入の補償ドナー濃度低減効果
グローバルネット株式会社

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名大、角田 健輔

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PFSシリーズ

株式会社アルバック

SiC プロセス等の高温での処理が必要な工程にマッチングさせた活性化アニール装置です。

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EVGR320 D2W

EV Group

直接配置式ダイ・トゥ・ウェーハ(D2W)接合向け業界初の商用ハイブリッド接合用活性化・洗浄装置

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