研磨の製品一覧

精密研磨装置 MAシリーズ

ムサシノ電子株式会社

試料ホルダーを用いて最適な研磨加工をご提案致します。 研磨盤・研磨剤を適切に選択することで、多様な材質の試料を荒削りから鏡面仕上げ、CMP…

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シリコンウェーハ バッチ式自動洗浄装置

PHT株式会社

ワイヤーソー後洗浄・ラップ後洗浄・アルカリエッチング洗浄・熱処理前洗浄・熱処理後洗浄・研磨後洗浄・FINAL洗浄に対応します。

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シリコンウェハー

株式会社同人産業

同人産業では主にCZ法とFZ法を採用し、単結晶シリコンの成長からスライス、エッチング、研削・研磨、精密加工まで一貫して行っております。

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GaN (ガリウムナイトライド)

株式会社同人産業

同人産業ではGaNテンプレート及びHVPE法のGaN自立基板(バルク)も販売しております。又、研削・研磨などの受託加工も承っております。

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単結晶SiCウェハー

株式会社同人産業

同人産業では2”、4”、6”、8”および特殊サイズのSiCウェハーをご提供します! 4H-N、4H-半絶縁、CMP研磨、ダイシング、GaN on SiC、厚み調整、多…

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サファイア加工品

株式会社同人産業

サファイアなら同人産業へ! ・サファイア基板、サファイア窓、サファイアインゴット ・サファイアピン、サファイアロッド棒、サファイアボー…

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POLYPAS

フジボウ愛媛株式会社

シリコンウエハー、半導体材料、光学レンズ、金属などのストックリムーバル(一次研磨)用に開発された不織布タイプの研磨材です。

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半導体研磨用CMPパッド

SKC Solmics

NAND製造メモリ向けパッド

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IC1000

DuPont de Nemours, Inc.

高い性能を求められる半導体デバイスのCMP工程において、性能、安定性、信頼性の 全てにおいてバランスのとれた研磨パッド

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半導体用CMPパッド

クラレ株式会社

長寿命かつ高段差の解消に最適なCMP研磨パッド

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